有源隱身研究和對消效應統(tǒng)計分析.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、該文概述了發(fā)展隱身技術的重要性及其定義、分類和無源隱身的局限性.介紹了有源隱身的概念、技術、分類、優(yōu)越性以及智能材料、等離子體、人為盲區(qū)等有源隱身技術的概念和機理.提出了用相控陣法實現(xiàn)對消式有源隱身的原理方案.定義了一種衡量隱身效果的重要參數(shù)——對消度,給出了其表達式和典型值.還提出了根據(jù)被保護目標RCS的平滑值確定對消數(shù)據(jù)庫的思想.應用物理光學法、等效電磁流法和區(qū)域投影/物理光學方法計算了面元散射場、劈邊緣繞射場以及多次散射場,采用此

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