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1、本文介紹了二元光學(xué)的發(fā)展?fàn)顩r以及制作二元光學(xué)器件的主要方法，特別是對激光直寫制作掩模、光刻和蝕刻成型技術(shù)進(jìn)行了詳細(xì)的分析與研究。 首先針對紅外折/衍混合光學(xué)系統(tǒng)中八臺階二元光學(xué)器件以及光刻制作的特點(diǎn)，對光刻掩模進(jìn)行了結(jié)構(gòu)參數(shù)的優(yōu)化設(shè)計(jì)，并采用激光直寫方法制作出了掩模。同時(shí)解決了相應(yīng)的掩模對準(zhǔn)問題。 詳細(xì)論述了光刻工藝過程，并對抗蝕劑涂布、曝光及顯影等關(guān)鍵技術(shù)環(huán)節(jié)進(jìn)行了研究，分析了各環(huán)節(jié)不同工藝參數(shù)對光刻圖形質(zhì)量的影響，并
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