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文檔簡介
1、在平板玻璃襯底上開展大面積、低成本的透明導(dǎo)電薄膜和太陽能薄膜材料的制備技術(shù)研究,對開發(fā)利用太陽能、降低成本和推動實用化進程具有重要的意義。該項目的研究對發(fā)展新的環(huán)境協(xié)調(diào)型材料和生態(tài)建筑材料、保護環(huán)境和實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展具有重要意義。 本文在系統(tǒng)總結(jié)和全面分析用于太陽能電池的透明導(dǎo)電薄膜、多晶硅薄膜材料和氟碳自潔凈薄膜材料的研究現(xiàn)狀基礎(chǔ)上,深入研究了摻雜SnO<,2>導(dǎo)電薄膜和ITO透明導(dǎo)電薄膜的制備技術(shù),系統(tǒng)地研究了Sol-Gel制
2、備工藝參數(shù)、F、Sb離子的摻雜量,磁控濺射ITO薄膜的工藝參數(shù)、熱處理條件等對透明導(dǎo)電膜的的微觀結(jié)構(gòu)與電性能的影響。研究了等離子體增強化學(xué)氣相沉積a-Si薄膜工藝參數(shù)和金屬誘導(dǎo)晶化的工藝參數(shù)對制備的poly-Si薄膜的微觀結(jié)構(gòu)和光電性能的影響。通過大量實驗研究,取得了如下一些創(chuàng)新性成果: (1)采用改進的Sol-Gel法制備出均勻致密、晶粒大小約為10nm的SnO<,2>:F透明導(dǎo)電薄膜,其透光率達到85%,方塊電阻約為20~3
3、0Ω/□。 (2)利用Sol-Gel法制備出SnO<,2>.Sb透明導(dǎo)電薄膜。Sb摻雜濃度為5%的Sn02透明導(dǎo)電薄膜具有最低的方塊電阻78Ω/□,載流子濃度可達1.1×10<'21>cm<'-3>,遷移率為1.46cm<'2>V<'-1>·s<'-1>,可見光平均透過率為75%。 (3)以90 wt%In和10 wt%Sn銦錫合金和氧化銦錫陶瓷靶為靶材,采用直流和射頻磁控反應(yīng)濺射法在玻璃基片制備出透過率高于85%,方塊
4、電阻小于10Ω的高取向生長的ITO透明導(dǎo)電薄膜。通過對幾種不同導(dǎo)電薄膜的制備技術(shù)和導(dǎo)電薄膜材料性能的對比研究,獲得了滿足太陽能電池工藝一致性和整體性要求的TCO薄膜。 (4)利用PECVD設(shè)備在普通玻璃基片上沉積a-Si薄膜,采用鋁誘導(dǎo)晶化法(AIC)在氮氣氣氛下進行快速退火處理成功地制備出晶化溫度在500℃以下的poly-Si薄膜。 (5)設(shè)計了太陽能電池自潔凈薄膜,并用射頻濺射法成功制備了氟碳高分子疏水自潔凈薄膜并進
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