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文檔簡介
1、縮小集成器件的特征尺寸是提高集成電路綜合性能的最基本方法,也是半導(dǎo)體摩爾定律的基礎(chǔ)。在傳統(tǒng)的半導(dǎo)體器件中,電子被看成是經(jīng)典粒子,它通常只用于電子相干長度小于器件最小尺寸的條件。隨著集成器件尺寸的不斷縮小,電子能級的分離程度不斷增加,量子效應(yīng)開始顯現(xiàn),當(dāng)特征尺寸小于10nm后,量子隧穿效應(yīng)將會使傳統(tǒng)的半導(dǎo)體集成器件失效,也就是到達(dá)傳統(tǒng)半導(dǎo)體集成器件的物理極限。針對這種情況,世界各國的研究單位提出了一些新的器件理論和模型,其中單電子器件(S
2、ingle Electron Device,SED)是目前被認(rèn)為是最有發(fā)展前景的新器件。 自單電子器件問世以來,因?yàn)槠涞凸?,高速率及靈敏度,成為新器件的寵兒。然而它也有增益低,不利于級聯(lián);正反向邏輯同時(shí)存在,可能出現(xiàn)干擾;由于隧穿幾率問題,無法準(zhǔn)確控制器件邏輯及其時(shí)間等缺點(diǎn)。 本文較詳細(xì)介紹了單電子器件的原理、材料制備及電路器件方面的研究現(xiàn)狀。在基于目前單電子器件設(shè)計(jì)存在的一些問題,提出了采用非對稱設(shè)計(jì)來解決其中一些主
3、要的、采用對稱設(shè)計(jì)難以解決的一些問題,比如正反邏輯同時(shí)存在互相干擾、器件工作溫度低、存儲時(shí)間短等。文中系統(tǒng)的討論了單電子器件中可能采用非對稱設(shè)計(jì)的三種情況,并可應(yīng)用形成不同性能,又各有特點(diǎn)的單電子器件:采用非對稱勢壘結(jié)構(gòu)的單電子器件(ATBs),由于其非對稱臺階狀勢壘的存在,不僅使其擦寫速度保持在μs和ns量級,其存儲時(shí)間長達(dá)數(shù)年,有效的解決了單電子器件擦寫速率與保存時(shí)間的矛盾;而采用非對稱勢壘形狀設(shè)計(jì)的單電子隧穿二極管結(jié)構(gòu),則有效的產(chǎn)
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