利用激光直寫制作灰度掩模技術(shù)研究.pdf

1、在當(dāng)前的某些應(yīng)用領(lǐng)域,必須使用小型、高效、陣列化的衍射光學(xué)元件.但是衍射光學(xué)元件目前使用的加工方法如:機械加工方法、二元光學(xué)方法和直寫方法都有其各自缺點.上世紀(jì)九十年代中期逐漸發(fā)展起來的灰度掩模技術(shù)加工衍射光學(xué)元件,與上述方法相比有很多優(yōu)點,是一種有發(fā)展前景的衍射光學(xué)元件制作技術(shù).在元件尺寸遠(yuǎn)大于波長量級時,用標(biāo)量衍射理論分析元件是有效的.本文根據(jù)標(biāo)量衍射理論,圍繞衍射效率對利用灰度掩模方法制作衍射光學(xué)元件進行了研究.內(nèi)容如下:1、根據(jù)

2、本實驗室直寫設(shè)備的實際參數(shù),完成了菲涅耳透鏡的設(shè)計工作.2、用計算機模擬,討論了當(dāng)綜合考慮寫入效率和制作元件的性能時寫入步長的選擇問題.3、用計算機模擬了制作菲涅耳透鏡時灰度掩模的曝光量分布和菲涅耳透鏡的面形結(jié)構(gòu).4、詳細(xì)分析了菲涅耳透鏡制作時產(chǎn)生的刻蝕深度誤差對衍射效率的影響.5、建立了兩種菲涅耳透鏡線寬誤差模型,分別推導(dǎo)了兩類線寬誤差與衍射效率的函數(shù)關(guān)系,分析了各自對衍射效率的影響.6、用Q因子方法簡單估算了側(cè)壁傾斜誤差對衍射效率的