Ni-SiC復合沉積電極過程動力學及鍍層電化學腐蝕行為研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩93頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、本課題主要對復合電沉積的機理進行了研究,特別是第二相粒子的引入對晶粒成核和生長機理的影響。應用掃描電鏡,X-射線衍射,對SiC粉體的形貌、結構進行分析,借助精密pH計就SiC粉體在鍍液中吸附特性進行了檢測。在此基礎上,利用CHI660C電化學工作站對純鎳體系、Ni-SiC復合體系和加入促進劑的復合體系電沉積過程進行了循環(huán)伏安、計時安培和交流阻抗譜測試。論文還就三類鍍層在3.5%NaCl和3.5%NaCl+0.3%H2O2腐蝕體系中的電化

2、學行為采用極化曲線、交流阻抗等電化學手段進行了監(jiān)測分析。 試驗結果表明,SiC粉體呈不規(guī)則多邊形,平均粒徑約7 μm,其晶型主要為6H即六方結構。SiC顆粒加入到Watts鍍液中,將會吸附鍍液中H+離子而使表面荷正電,在鍍液pH為3.70左右,其吸附量最大。 恒電位階躍分析表明,復合沉積鎳電結晶形核經(jīng)歷兩相繼過程,第一過程沉積伊始形核遵循BFT模型連續(xù)成核機制,而后隨電位負移過渡到BFT瞬時成核機制,第二過程隨電位負移先

3、后吻合BFT瞬時成核或SH瞬時成核理論曲線;無論Ni-SiC復合鍍層還是純Ni鍍層,形核弛豫時間tm隨負電位的增大,呈現(xiàn)規(guī)律性遞減趨勢,相應的Im值基本相近;SiC粉體的引入導致Ni形核過電位正移和tm的顯著減小。 交流阻抗表明,非法拉第電位區(qū),SiC粉體的表面吸附(或附著)改變了電極表面的荷電狀態(tài),打破了內(nèi)Helmholtz面大分子和水化離子對電極的屏蔽,大幅降低了復合體系的電荷傳輸電阻。而在臨近及此后沉積電位區(qū),純鎳表面雙電

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論