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文檔簡介
1、本課題主要對復合電沉積的機理進行了研究,特別是第二相粒子的引入對晶粒成核和生長機理的影響。應用掃描電鏡,X-射線衍射,對SiC粉體的形貌、結構進行分析,借助精密pH計就SiC粉體在鍍液中吸附特性進行了檢測。在此基礎上,利用CHI660C電化學工作站對純鎳體系、Ni-SiC復合體系和加入促進劑的復合體系電沉積過程進行了循環(huán)伏安、計時安培和交流阻抗譜測試。論文還就三類鍍層在3.5%NaCl和3.5%NaCl+0.3%H2O2腐蝕體系中的電化
2、學行為采用極化曲線、交流阻抗等電化學手段進行了監(jiān)測分析。 試驗結果表明,SiC粉體呈不規(guī)則多邊形,平均粒徑約7 μm,其晶型主要為6H即六方結構。SiC顆粒加入到Watts鍍液中,將會吸附鍍液中H+離子而使表面荷正電,在鍍液pH為3.70左右,其吸附量最大。 恒電位階躍分析表明,復合沉積鎳電結晶形核經(jīng)歷兩相繼過程,第一過程沉積伊始形核遵循BFT模型連續(xù)成核機制,而后隨電位負移過渡到BFT瞬時成核機制,第二過程隨電位負移先
3、后吻合BFT瞬時成核或SH瞬時成核理論曲線;無論Ni-SiC復合鍍層還是純Ni鍍層,形核弛豫時間tm隨負電位的增大,呈現(xiàn)規(guī)律性遞減趨勢,相應的Im值基本相近;SiC粉體的引入導致Ni形核過電位正移和tm的顯著減小。 交流阻抗表明,非法拉第電位區(qū),SiC粉體的表面吸附(或附著)改變了電極表面的荷電狀態(tài),打破了內(nèi)Helmholtz面大分子和水化離子對電極的屏蔽,大幅降低了復合體系的電荷傳輸電阻。而在臨近及此后沉積電位區(qū),純鎳表面雙電
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