彩色顯像管用曝光校正透鏡設計.pdf

1、本文對彩色顯像管用曝光校正透鏡設計技術進行基礎研究。提出了校正透鏡設計的數(shù)學模型，對相關的算法進行了理論推導，通過編寫相應的設計程序實現(xiàn)了校正透鏡的計算機輔助設計。 由于我國彩色顯像管生產幾乎全部從國外引進，因此我國的彩色顯像管產業(yè)基本上只有生產線制造技術，國外一般不提供相應的部件設計、材料設計和新管型設計所需要的技術。曝光校正透鏡決定了彩管的白場、色純等重要質量指標，因而其設計技術是制造彩色顯像管的關鍵技術，也是進行新管型開發(fā)

2、不可缺少的技術。當前彩色顯像管產業(yè)正面臨著液晶、等離子體等新型顯示器件的挑戰(zhàn)和競爭，如不提高顯示質量、降低成本，則有可能被新顯示器件所取代。因而我國彩管生產廠家必須進一步提高彩管的性價比，即采用價格更低的國產元件和材料，自主開發(fā)新的管型以滿足市場需求，這就需要對曝光校正透鏡進行修正或設計，以保證彩管具有良好的白場、色純等性能。這是我國彩管產業(yè)的當務之急。此外，由于曝光校正透鏡是與彩管管型、部件、工藝和材料等適配的，因而各公司的曝光校正透

3、鏡也有較大差異。并且曝光校正透鏡只是制造彩管過程使用的一個部件，因而無法得到和仿制的。鑒于以上原因，探討彩管曝光校正透鏡的設計對提高彩管的白場性能和自主設計新型彩色顯像管具有重要理論和實踐價值。 曝光校正透鏡設計技術是彩色顯像管的關鍵技術之一。鑒于空間偏轉磁場分布很難精確測量和計算，本文提出了以舊透鏡曲面為基礎，以著屏誤差最小化為目標的曝光校正透鏡設計方法。為了簡化數(shù)學模型和優(yōu)化算法，提出了以虛光源面(S面)為基礎的著屏誤差修正

4、方法，即把顯像管上實測的著屏誤差通過一定的對應關系，轉換成虛光源面(S面)上的著屏誤差，以此為基礎進行曝光校正透鏡設計。本文還論述了曝光校正透鏡厚度和法線方向的變化對著屏的不同影響，因而在新透鏡曲面的擬合中作為二個不同的權重因子。 根據(jù)實際校正透鏡設計工作，提出了把校正透鏡設計程序分為著屏誤差測量、光路追蹤、透鏡設計、新透鏡驗證等四個模塊的方法，即分為并編寫了相應程序，各模塊之間采用從文件讀取數(shù)據(jù)方式和把數(shù)據(jù)寫入文件來進行數(shù)據(jù)交