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1、光學(xué)薄膜技術(shù)作為現(xiàn)在光學(xué)技術(shù)的一個(gè)重要分支，在光電領(lǐng)域有著不可替代的作用，而隨著現(xiàn)代軍用光電系統(tǒng)精確制導(dǎo)、目標(biāo)跟蹤和光電對(duì)抗的發(fā)展，對(duì)光學(xué)薄膜的要求也越來越高，除了應(yīng)具備良好的耐用性等機(jī)械牢固度特性外，還應(yīng)具有良好的多波段光學(xué)特性。膜層的鍍制是一個(gè)涉及許多學(xué)科的復(fù)雜過程。本論文根據(jù)三光合一(可見光、紅外、激光)系統(tǒng)的要求，主要研究在CaF2基底上減反射膜的設(shè)計(jì)和優(yōu)化，并對(duì)其制備工藝進(jìn)行了大量的研究。通過對(duì)鍍膜過程中影響膜層性能的工藝因素
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