基于機器視覺的光刻機自動對準系統(tǒng).pdf

1、在半導體芯片制造中，最關鍵的設備是光刻機，同時它也是投資最大的設備，光刻機的成本幾乎占到整個生產(chǎn)線成本的30%，而且光刻機也是技術最復雜的設備，是高精密的光、機、電系統(tǒng)。對準系統(tǒng)是光刻機關鍵子系統(tǒng)之一，提高對準系統(tǒng)精度將直接提高套刻精度，進而提高產(chǎn)品質(zhì)量，同時對準系統(tǒng)速度和效率也將影響產(chǎn)品生產(chǎn)率。
　　 設計了基于機器視覺的自動對準流程，包括工件臺對準流程、掩模對準流程和硅片對準流程。利用自動對準結(jié)果，建立了對準分系統(tǒng)所涉及的關

2、鍵測量模型，包括工件臺對準測量模型、掩模平移量和旋轉(zhuǎn)量測量模型、硅片平移量和旋轉(zhuǎn)量測量模型。
　　 在對準分系統(tǒng)控制層次架構(gòu)的基礎上，設計了基于機器視覺的自動對準實驗系統(tǒng)硬件架構(gòu)，對所涉及的各個硬件模塊進行了選型，并搭建了自動對準實驗硬件系統(tǒng)。
　　 對自動對準實驗軟件系統(tǒng)進行了需求分析，在此基礎上對軟件系統(tǒng)的層次和模塊進行了設計和分析。通過消息機制達到了客戶端和服務器端通信的目的，并實現(xiàn)了相應的客戶端軟件和服務器端軟件

3、。
　　 在搭建好的對準系統(tǒng)實驗軟硬件平臺上，驗證了本實驗系統(tǒng)軟硬件的可行性，重復定位精度可達到200nm，滿足了對準的性能要求，同時進行了一系列相關實驗，并對實驗結(jié)果進行了分析，得出了一些有益的結(jié)論：為了減小標記定位誤差，硬件方面要盡量采用高信噪比的CCD、穩(wěn)定的光源和一定的隔振系統(tǒng)；軟件方面可以考慮使用高斯濾波和中值濾波等圖像預處理方法；基于Euresys/eVision的模板匹配算法對光照改變有較好的適應性，尤其是其重復定