Cercon全瓷冠邊緣適合性的實(shí)驗(yàn)研究.pdf

1、修復(fù)體的邊緣適合性對(duì)于評(píng)價(jià)其修復(fù)成功與否是一個(gè)關(guān)鍵因素.適合的邊緣能增強(qiáng)修復(fù)體強(qiáng)度,防止細(xì)菌的侵襲以保護(hù)牙體周圍的軟硬組織健康.Cercon全瓷系統(tǒng)是利用計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)和制作(CAD/CAM)完成的,從1984年第一代發(fā)展以來,雖然運(yùn)用局限,但隨著技術(shù)的不斷改進(jìn),1994年第二代應(yīng)運(yùn)而生,開始全冠的修復(fù),2000年后第三代的Cercon系統(tǒng)更為完善,范圍涉及冠橋的修復(fù),其氧化鋯陶瓷成份的改進(jìn)使抗彎強(qiáng)度,韌性及延展性的增加,冠與牙體也更為

2、密和,更能反映制備體軸面的細(xì)微變化.三代經(jīng)橫向的比較,修復(fù)體邊緣間隙趨于完善.本課題通過光學(xué)雙目顯微鏡及內(nèi)置數(shù)碼攝影系統(tǒng)對(duì)三種不同材料的全冠修復(fù)體(Cercon全冠, EmpressⅡ全冠,松風(fēng)烤瓷全冠)在同一聚合度及肩臺(tái)形態(tài)下牙體四個(gè)軸面的邊緣間隙進(jìn)行縱向的比較,各點(diǎn)間隔300μm,使修復(fù)體邊緣到牙預(yù)備體頸緣的垂直距離邊緣實(shí)現(xiàn)適合性的量化.通過不同修復(fù)體之間邊緣適合性的實(shí)驗(yàn)比較研究,為臨床應(yīng)用提供理論依據(jù)和具體參數(shù). 方法：選

3、取本院口腔科就診的牙周炎需拔牙患者4例,以上頜第一磨牙為實(shí)驗(yàn)對(duì)象,要求牙體完整無缺損,無齲蝕,解剖形態(tài)典型.局麻下拔除的離體牙流水沖洗清潔,超聲波潔牙器去除齦上齦下結(jié)石,用3﹪雙氧水常溫保存?zhèn)溆?取出離體牙清洗,氣沖吹干,于牙體釉牙骨質(zhì)界下2mm處做標(biāo)記后完全埋入自凝塑料中.將離體牙模型在牙科研磨儀上分別制備成軸面聚合度為6°-8°,用肩臺(tái)車針預(yù)備成90°肩臺(tái),寬約1mm,黔面為120°-140°,均勻磨除1.5-2mm的牙預(yù)備體.將備

4、好的4個(gè)牙體在光學(xué)顯微鏡下觀察,選擇其中一個(gè)表面較為光滑,線腳圓鈍且無穿髓的實(shí)體牙為標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ?再次確認(rèn)標(biāo)準(zhǔn)模型軸面聚合度為8°,90°肩臺(tái),寬1mm,<牙,合>面為140°,并使離體牙底座與底座石膏分離,硅橡膠取離體牙印模,翻制樹脂代型(日本日進(jìn)齒科材料有限公司)40個(gè)(其中10個(gè)備用),頸緣打磨光滑,分成三組,每組各10個(gè),分別是Cercon全瓷組(C組,C1-C10),EmpressⅡ(E組,E1-E10)全瓷冠組以及PFM冠組

5、(M組,M1-M10),后二者為對(duì)照組.冠粘結(jié)后于體視顯微鏡下(總放大倍數(shù)為30)觀測(cè)并記錄冠的邊緣間隙. 結(jié)果：Cercon全瓷組(C組),EmpressⅡ(E組)全瓷冠組以及PFM烤瓷冠組(M組)所測(cè)點(diǎn)分別是1092,1082和1082個(gè)值,其測(cè)算值用SPSS13.0軟件統(tǒng)計(jì)分析. Cercon全瓷組(C組)的邊緣間隙范圍為28.43±9.95Pro(7.63μm-96.57μm),EmpressⅡ(E組)的邊緣間隙

6、范圍為31.76±14.03Pm(7.63μm-110.69μm),松風(fēng)烤瓷冠組(M組)的邊緣間隙范圍為57.21±27.33μm(11.45μm-209.96μm).采用單因素方差(ONE WAY ANOVA)分析;組間兩兩比較采用簡(jiǎn)單相關(guān)t檢驗(yàn)分析,P<0.01,各組間有顯著差異,并且Cercon全瓷組(C組)各點(diǎn)之間的數(shù)值振幅頻率最小,EmpressⅡ(E組)次之,松風(fēng)烤瓷冠組(M組)則最大.三組全冠的邊緣適合性均能滿足臨床的需求

7、,其中以Cercon全瓷組(C組)的邊緣間隙最小. 結(jié)論：全冠邊緣適合性體現(xiàn)了修復(fù)體與牙預(yù)備體之間的密合程度.良好的邊緣密合度能有效地提高修復(fù)體的固位力及抗力,對(duì)牙周組織的健康有一定的影響.本實(shí)驗(yàn)通過對(duì)三組不同材料全冠邊緣間隙值的測(cè)量,發(fā)現(xiàn)全瓷冠的邊緣適合性優(yōu)于金一瓷復(fù)合結(jié)構(gòu)的低熔烤瓷冠,而前者又以Cercon全瓷組(C組)的邊緣平均測(cè)量值小于EmpressⅡ(E組),故三者中Cercon全瓷組冠與牙預(yù)備體的結(jié)合最為緊密.適合性