HBIC種植鈦與常用冠修復(fù)金屬材料的電化學(xué)腐蝕實(shí)驗(yàn)研究.pdf

1、目的：通過(guò)對(duì)HBIC型鈦種植體與口腔科常用修復(fù)烤瓷合金在中性人工唾液、酸性及含氟的人工唾液中的電化學(xué)腐蝕性能進(jìn)行綜合評(píng)價(jià)，為臨床合理選擇與種植體相匹配的種植義齒上部結(jié)構(gòu)材料提供參考。
　　 方法：⑴選擇目前本院使用的HBIC型鈦種植體（T-H）以及臨床常用冠修復(fù)材料：鎳鉻合金（N）、鈷鉻合金（C）、金鉑合金（Au）、鑄造純鈦（T），按廠家要求包埋鑄造。所有試樣均為直徑4mm，高10mm的圓柱體，每種金屬各4個(gè)。將金屬圓柱體楔入直

2、徑為3.5mm的聚四氟乙烯管中，環(huán)氧樹(shù)脂密封，一端導(dǎo)線接出。暴露面表面積為0.1257c㎡。用220目、400目、600目、800目水砂紙順序磨平，按臨床拋光順序和要求拋光，浸入人工唾液中24h備用，使表面狀態(tài)趨于穩(wěn)定。⑵人工唾液的制備配制 pH=6.8；pH=4；pH=6.8加入0.1％F-；pH=4加入0.1％F-的A，B，C，D四種人工唾液。⑶采用經(jīng)典三電極體系的電化學(xué)方法，在A，B，C，D四種人工唾液中檢測(cè)5種常用牙科金屬（合金

3、）以及HBIC型鈦種植體（T-H）的自腐蝕電位（E corr）、腐蝕電流密度（Iccor），并繪制出極化曲線。⑷掃描電鏡對(duì)合金表面形貌進(jìn)行觀察。
　　 結(jié)果：①在pH=6.8的人工唾液中Au>C>N>T>T-H，其中Au組的自腐蝕電位大于其余四組金屬（合金）的自腐蝕電位（p<0.05），C組、N組的自腐蝕電位大于T組、T-H組（p<0.05），C組、N組與T組、T-H組間無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義（p>0.05）。②金鉑合金組在四種人工唾液中

4、測(cè)得腐蝕電流密（Iccor）依次為AuA組0.05）。③在pH=6.8的人工唾液中，四種金屬腐蝕電流密度（Iccor）為依次為N組>C組>T組>T-H組>Au組，其中N組、C組與Au組、T組、T-H組間有統(tǒng)計(jì)學(xué)差異（p<0.05），N組與C組，T

5、組與T-H組與Au組間無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)差異（p>0.05）；在pH=4的人工唾液中四種金屬腐蝕電流密度（Iccor）為依次為N組>C組>Au組>T組>T-H組，其中T組、T-H組與N組、C組、Au組間有統(tǒng)計(jì)學(xué)差異（p<0.05），Au組Iccor小于N組與C組有統(tǒng)計(jì)學(xué)差異（p<0.05），T組與T-H組，N組與C組間無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)差異（p>0.05）。④金合金在pH=6.8、pH=6.8含氟人工唾液中測(cè)試后在掃描電鏡下觀察未見(jiàn)明顯腐蝕破壞；在pH=4

6、和pH=4含氟人工唾液中測(cè)試后合金表面可見(jiàn)散在的且直徑較小的淺的點(diǎn)蝕坑；鎳鉻合金在pH=6.8、pH=6.8含氟人工唾液中腐蝕明顯，為典型的孔蝕樣表現(xiàn)，且隨pH降低，腐蝕加??；鈷鉻合金在pH=6.8、pH=4及pH=6.8含氟的人工唾液中測(cè)試后掃描電鏡下觀察有剝脫性腐蝕破壞表現(xiàn)，在酸性含氟環(huán)境中腐蝕破壞加劇；鑄造純鈦、HBIC型鈦種植體在pH=6.8、pH4及pH=6.8加0.1％F的人工唾液中的腐蝕均不明顯，但在pH=4加0.1％F的

7、人工唾液中測(cè)試后掃描電鏡高倍下觀察表現(xiàn)為蜂窩狀改變，金屬原有形態(tài)完全破壞。
　　 結(jié)論：⑴在中性人工唾液中，金鉑合金、鎳鉻合金、鈷鉻合金、鑄造純鈦及HBIC型鈦種植體均有較好的耐腐蝕性能，其中金合金、鑄造純鈦及HBIC型鈦種植體耐腐蝕性優(yōu)于鈷鉻合金、鎳鉻合金。⑵在酸性人工唾液中鎳鉻合金、金合金腐蝕電流密度明顯增大，而pH值的降低對(duì)鈷鉻合金、鑄造純鈦及HBIC型鈦種植體沒(méi)有明顯影響。⑶氟化物的加入使金合金、鈷鉻合金、鎳鉻合金、鑄造