南昌二中2012-2013學(xué)年度上學(xué)期高三化學(xué)第一次考試

1、1南昌二中南昌二中2012201220132013學(xué)年度上學(xué)期第一次考試學(xué)年度上學(xué)期第一次考試高三化學(xué)試題高三化學(xué)試題命題人：周艷華命題人：周艷華相對(duì)原子質(zhì)量：H1C12N14O16Cl35.5Mg24Fe56Cu64第Ⅰ卷選擇題一、（共4848分，每小題只有只有1個(gè)選項(xiàng)符合題意個(gè)選項(xiàng)符合題意）1.化學(xué)知識(shí)在生產(chǎn)和生活中有著重要的應(yīng)用。下列說法中正確的是①鈉的還原性很強(qiáng)，可以用來冶煉金屬鈦、鉭、鈮、鋯等②K、Na合金可作原子反應(yīng)堆的導(dǎo)熱

2、劑③發(fā)酵粉中主要含有碳酸氫鈉，能使焙制出的糕點(diǎn)疏松多孔④Na2O2既可作呼吸面具中O2的來源，又可漂白織物、麥桿、羽毛等⑤碳酸鈉在醫(yī)療上是治療胃酸過多的一種藥劑⑥明礬常作為消毒劑A.①②③④B.①②③④⑤C.①②③④⑥D(zhuǎn).①②③④⑤⑥2.設(shè)NA表示阿伏加德羅常數(shù)的值。下列說法正確的是A.標(biāo)準(zhǔn)狀況下，0.1molCl2溶于足量水，轉(zhuǎn)移的電子數(shù)目為0.1NAB.0.1molFe與足量的稀HNO3反應(yīng)，轉(zhuǎn)移0.2NA個(gè)電子C.1L0.1mol

3、L1Na2CO3液含有0.1NA個(gè)CO32D.電解NaCl熔融液得到7.1gCl2，理論上需要轉(zhuǎn)移0.2NA個(gè)電子3.常溫下，下列溶液中一定能大量共存的離子組是A.含有大量Fe2的溶液：ClO－、Na＋、Cl－、SO42－B.能使氫氧化鋁迅速溶解的溶液：Na、Fe2、NO3－、SO42－C.pH=0的溶液：NH4＋、Na＋、SO42－、Fe3D.水電離產(chǎn)生的c(H＋)＝110－12mol／L的溶液：HCO3－、NH4＋、Cl－、Ca24

4、.同溫同壓下，甲容器中的NH3和乙容器中的CH4所含的原子總數(shù)相同，則甲容器與乙容器的體積之比為A.1：1B.2：1C.3:4D.5：45.某MgCl2溶液的密度為1.18gcm3其中Mg2離子的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5.1%300mL該溶液中Cl離子的物質(zhì)的量約等于A.0.37molB.0.63molC.0.74molD.1.5mol6.某物質(zhì)溶于水所得溶液既能使藍(lán)色石蕊試紙變紅，也能與碳酸鹽反應(yīng)生成氣體，此物質(zhì)有可能是：①單質(zhì)②氧化物③酸④堿⑤

5、鹽A.①②④B.①②③⑤C.②D.①②③④⑤7.氯酸是一種強(qiáng)酸，濃度超過40％時(shí)會(huì)發(fā)生分解，反應(yīng)可表示為：aHClO3=bO2↑c(diǎn)Cl2↑dHClO4eH2O。下列有關(guān)說法不正確的是A.由反應(yīng)可確定：氧化性HClO3＞O2B.由非金屬性Cl＞S，可推知酸性HClO3＞H2SO4C.若氯酸分解所得混合氣體，lmol混合氣體質(zhì)量為45g，則反應(yīng)方程式可表示為：3HClO3=2O2↑C12↑HClO4H2OD.若化學(xué)計(jì)量數(shù)a=8，b=3，則該

6、反應(yīng)轉(zhuǎn)移電子數(shù)為20e－8.對(duì)海水進(jìn)行開發(fā)利用的部分流程如下圖所示。下列說法不正確的是A.可用BaCl2溶液除去粗鹽中的SO42B.從苦鹵中提取Br2的反應(yīng)的離子方程式為：2BrCl2==2ClBr2C.試劑1可以選用石灰乳3D.在集氣瓶的導(dǎo)管口處放一片濕潤(rùn)的淀粉碘化鉀試紙可以證明是否有氯氣逸出第Ⅱ卷非選擇題（共5252分）17(10分)在某澄清、透明的淺黃色溶液中，可能含有K、NH4、Fe3、Ba2、Al3、SO42、HCO3、Cl離

7、子。進(jìn)行下述實(shí)驗(yàn)（所加試劑均過量）。(1)氣體A的化學(xué)式是，沉淀A的化學(xué)式是；(2)待測(cè)液中一定存在；一定不存在_______；(3)寫出溶液C與過量氨水反應(yīng)的離子方程式。(4)三硅酸鎂被用來治療胃酸過多的胃潰瘍，是因?yàn)樵撐镔|(zhì)不溶于水，服用后能中和胃酸，作用持久。把三硅酸鎂(Mg2Si3O8nH2O)改寫成氧化物的形式為，它中和胃酸(HCl)的離子方程式是：。18.(10分)晶體硅是一種重要的非金屬材料。請(qǐng)寫出晶體硅的二種用途：____

8、__、______制備純硅的主要步驟如下：①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3(常溫下為液態(tài)，易揮發(fā))③SiHCl3與過量Ｈ2在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅。已知:Ⅰ.SiHCl3水解會(huì)生成兩種氣態(tài)產(chǎn)物，請(qǐng)寫出其水解的化學(xué)方程式：___________。Ⅱ.SiHCl3在空氣中自燃。請(qǐng)回答下列問題：（1）第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為。（2）用SiHCl3與過量Ｈ2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源

9、及夾持裝置略去）①裝置Ｂ中的試劑是，裝置Ｃ中的燒瓶需要加熱，其目的是______________，②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置Ｄ中觀察到的現(xiàn)象是_，裝置Ｄ中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為___，③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及_____________，④設(shè)計(jì)鑒定產(chǎn)品硅中是否含少量Fe單質(zhì)的方法:_________________________________。19.(8分)含氯消毒劑和過氧化物等強(qiáng)氧