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1、隨著制造領(lǐng)域不斷向微型化推進(jìn),微型零件的需求日益增加。銅箔成形性能優(yōu)良,經(jīng)微氣壓脹形可以獲得結(jié)構(gòu)微小、形狀復(fù)雜的零部件,特別是微機(jī)電系統(tǒng)部件,其中電鑄是一種常見(jiàn)的銅箔制備方法。微氣壓脹形作為微成形技術(shù)之一,成形精度高、少無(wú)回彈、可一次成形復(fù)雜零件,受到越來(lái)越多關(guān)注。提高坯料厚度均勻性與性能均一性有助于提高微氣壓脹形件的質(zhì)量。因此開(kāi)展電鑄銅箔的厚度均勻性與性能均一性研究,并進(jìn)行微氣壓脹形工藝探索,對(duì)于發(fā)展微成形技術(shù)具有重要的理論意義和實(shí)用
2、價(jià)值。
本文研究了占空比、電流密度、電源屬性及電鑄時(shí)間四個(gè)因素對(duì)電鑄銅箔材均勻性的影響,并用正交實(shí)驗(yàn)法優(yōu)化了工藝,確定了制備出均勻性良好銅箔材的工藝。采用該工藝制備的銅箔作為微氣壓脹形原材料,研究了電鑄銅箔各位置內(nèi)應(yīng)力、組織和拉伸性能差異,后采用正交試驗(yàn)法研究脹形溫度、壓力和熱處理工藝對(duì)極限脹形高度的影響以獲得最優(yōu)參數(shù)。本文主要結(jié)論如下:
成功制備出具有均勻性良好的銅箔,均勻性優(yōu)于現(xiàn)有文獻(xiàn)報(bào)導(dǎo)。電鑄最優(yōu)工藝為采用雙脈
3、沖電源,正向占空比30%,負(fù)向占空比10%,電流密度為2A/dm2,電鑄時(shí)間92min; CV值最低達(dá)到1.54%。厚度呈現(xiàn)位置5>1>2>3>4的規(guī)律性。
本論文采用雙脈沖電流制備的銅箔各位置內(nèi)應(yīng)力差異顯著,微觀組織基本相同。電鑄銅箔純度高、強(qiáng)度高、塑性差。厚度相同時(shí),其抗拉強(qiáng)度高于現(xiàn)有文獻(xiàn)報(bào)導(dǎo)??估瓘?qiáng)度存在位置效應(yīng),與不同位置晶粒的擇優(yōu)取向有很大關(guān)系。(111)和(200)織構(gòu)能提升銅箔的抗拉強(qiáng)度;(220)織構(gòu)會(huì)降低銅箔
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