2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩71頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、本文系統(tǒng)地研究了摻雜離子對PbWO4晶體(以下簡稱PWO晶體)結(jié)構(gòu)的影響,討論了摻雜晶體組成和結(jié)構(gòu)的關(guān)系,以及晶體生長工藝和設(shè)備改進(jìn)。
  通過增加輔助熱源改進(jìn)生長設(shè)備,減小了坩堝內(nèi)熔體自上而下的溫度梯度,從而解決了生長晶體底部外凸現(xiàn)象。利用滑輪設(shè)計(jì)保溫蓋板解決可視化問題。引風(fēng)系統(tǒng)的采用避免了鉛揮發(fā)對科研人員造成的危害。Czochralski法生長晶體,由于高溫和非密封環(huán)境,以及PbO比WO3更易揮發(fā)的特性,晶體沿縱向呈缺Pb趨勢

2、,熔體富W。
  Raman光譜證實(shí)生長的各種PWO晶體為體心四方結(jié)構(gòu)。Tb、Yb摻雜離子進(jìn)入晶格使得與Pb2+振動有關(guān)的譜線展寬并發(fā)生頻移,Mo摻雜使得WO42-基團(tuán)外模振動與W有關(guān)的譜線展寬,展寬程度隨摻雜離子濃度增加而增大。當(dāng)摻雜離子質(zhì)量小于被取代離子時,譜線向高頻方向移動;反之,則移向低頻。摻雜PWO晶體XRD圖譜中未出現(xiàn)新的衍射峰,但和未摻雜PWO晶體相比,摻雜離子使衍射峰位置和強(qiáng)度發(fā)生了改變,即晶格常數(shù)變大。當(dāng)摻雜離子

3、濃度較高時,由于VPb被摻雜離子占據(jù),濃度降低,這時摻雜離子主要占據(jù)Pb2+位,隨著摻雜濃度增加,半徑小于Pb2+的離子摻雜使晶格常數(shù)變小;反之,則變大。摻雜對常數(shù)c的影響更為明顯。并發(fā)現(xiàn)摻雜離子對VPb的取代優(yōu)于Pb2+。
  摻雜離子對晶體吸收邊位置和420nm處吸收產(chǎn)生了影響。當(dāng)摻雜離子極化能力大于Pb2+,使得W(Mo)O42-基團(tuán)內(nèi)電子躍遷所需能量增加,吸收邊紅移;對于高價的Tb3+、Yb3+摻雜能抑制420nm處吸收。

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論