原位XRD與原位Raman技術對CeO-,2-基復合氧化物氧缺位及其催化性能研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩69頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、原位Raman光譜能夠得到催化劑表面和不同反應條件(溫度、氣氛等)下表面中間體的一些分子水平上的基本信息,因而是一種非常有用的工具。我們利用原位RamaD光譜對Ce0.9Pr0.102固溶體表面氧缺位在不同氣氛和不同溫度下的性質進行了研究。利用不同的激發(fā)光波長可以得到樣品不同層次的信息,這也許可以對CeO2摻雜的固溶體中的氧缺位的信息有更進一步的了解。 采用溶膠-凝膠法制備了Ce0.9Pr0.102-δ固溶體。并且通過原位X射線衍

2、射(XRD)技術表征了固溶體在不同氣氛(O2、He和H2)和不同溫度下微觀結構的變化。分別采用785nm和514nm兩種不同波長的激發(fā)光研究了460cm-1(歸屬于螢石結構CeO2的F2g振動)和570cm-1峰(歸屬于氧缺位)在不同氣氛下隨溫度的變化規(guī)律。由于樣品在785nm和514nm處對光的吸收不同,因而可以得到樣品不同層次的信息。785nm激發(fā)光反映的是樣品的表層和體相信息的總和,而514nm激發(fā)光反映的是樣品的表層信息。采用7

3、85nm激光時,反映氧缺位濃度的A570/A460比值在O2和He氣氛下隨溫度的升高而升高,而在H2氣氛下A570/A460比值隨溫度的升高先升高后降低。采用514nm激光時,A570/A460比值在三種氣氛下均隨溫度的升高而升高。785nm激光下A570/A460比值的增加歸因于溫度升高、氧缺位濃度增加的正作用和還原氣氛(He和H2)下樣品的還原而引起的負作用。而對于514nm激發(fā)光,A570/A460比值的減小主要是由于升溫過程中表

4、面Pr向體相遷移致使表層Pr含量減少而引起的。 此外,采用檸檬酸溶膠-凝膠法制備了CeO2-、Ce0.9Pr0.102-δ、Ce0.95Cu0.05O2-δ、Ce0.9Pr0.05Cu0.05O2-δ復合氧化物,用XRD、原位Raman和原位IR等技術對復合氧化物的性質進行了表征。結果表明,在這些復合氧化物中均只觀察到立方CeO2的特征衍射峰。而且含有Pr元素的復合氧化物在570cm-1處觀察到了明顯的氧缺位的Raman峰。

5、 Ce0.9Pr0.102-δ固溶體A570/A460的比值高于Ce0.9Pr0.05Cu0.05O2-δ固溶體,這是因為Ce0.9Pr0.102-δ固溶體中的Pr含量高于Ce0.9Pr0.05Cu0.05O2-δ固溶體。反應氣氛(CO-O2-N2、O2-N2和CO-N2)下原位拉曼結果表明Ce0.9Pr0.102-δ和Ce0.9Pr0.05Cu0.05O2-δ固溶體的表面均接近于氧化態(tài)。CO氧化反應結果表明Pr和Cu的加入均能夠明

6、顯提高CO氧化活性。 結合CeO2-、Ce0.9Pr0.102-δ、Ce0.95Cu0.05O2-δ、Ce0.9Pr0.05Cu0.05O2-δ復合氧化物的原位Raman、原位IR表征和CO氧化活性結果表明:氧缺位和Cu離子的存在均能提高CO的氧化性能。這可能是因為氧缺位提供了O的吸附位,而Cu離子提供了CO的吸附中心。而Ce0.9Pr0.05Cu0.0502-δ固溶體同時含有氧缺位和Cu離子,因而其CO氧化活性最高。原位IR結

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論