外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件研究——以我國《專利法》第三次修改為視角.pdf

1、隨著知識經(jīng)濟(jì)和經(jīng)濟(jì)全球化深入發(fā)展,知識產(chǎn)權(quán)日益成為國家發(fā)展的戰(zhàn)略性資源和國際競爭力的核心要素,成為建設(shè)創(chuàng)新型國家的重要支撐和掌握發(fā)展主動(dòng)權(quán)的關(guān)鍵。外觀設(shè)計(jì)是知識產(chǎn)權(quán)的重要組成部分,據(jù)美國工業(yè)設(shè)計(jì)協(xié)會測算,在工業(yè)品外觀設(shè)計(jì)上每投入1美元,就可以帶來1500美元的收益。因此,加強(qiáng)對外觀設(shè)計(jì)的保護(hù)具有重大意義。
　　外觀設(shè)計(jì)專利保護(hù)涉及多個(gè)方面的內(nèi)容,其中最重要的就是外觀設(shè)計(jì)專利的授權(quán)條件問題。由于我國現(xiàn)行《專利法》對外觀設(shè)計(jì)實(shí)行的是初

2、步審查制度,采用的是較低的授權(quán)標(biāo)準(zhǔn),即新穎性標(biāo)準(zhǔn),使得我國外觀設(shè)計(jì)專利申請和授權(quán)的數(shù)量雖然不少,但是和美國、日本等專利強(qiáng)國相比,專利質(zhì)量還存在較大的差距。
　　2008年12月27日第十一屆全國人民代表大會常務(wù)委員會第六次會議通過了關(guān)于《修改<中華人民共和國專利法>的決定》,修改后的《專利法》將于2009年10月1日開始實(shí)施。新《專利法》對外觀設(shè)計(jì)專利的授權(quán)條件做了較大改動(dòng),提高了外觀設(shè)計(jì)專利的授權(quán)標(biāo)準(zhǔn),這無疑將有助于提高我國外觀

3、設(shè)計(jì)專利的質(zhì)量。
　　本文以《專利法》第三次修改為背景,就外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件的修改情況、修改的原因及修改后的適用等問題進(jìn)行探討。全文由引言、正文、結(jié)尾組成。
　　正文分為三部分:第一部分介紹本次外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件的修改情況。有關(guān)外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件部分的修改內(nèi)容,涉及四個(gè)方面:適當(dāng)限制授予外觀設(shè)計(jì)專利的范圍,提高外觀設(shè)計(jì)專利的授權(quán)標(biāo)準(zhǔn),允許對關(guān)聯(lián)外觀設(shè)計(jì)的申請,申請外觀設(shè)計(jì)專利時(shí)須提交簡要說明。該部分重點(diǎn)對外觀設(shè)計(jì)專利的

4、實(shí)質(zhì)授權(quán)條件中現(xiàn)有技術(shù)的含義、絕對新穎性標(biāo)準(zhǔn)、抵觸申請及獨(dú)創(chuàng)性要求等內(nèi)容進(jìn)行評述,以此來強(qiáng)調(diào)提高外觀設(shè)計(jì)授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)的重要性。
　　第二部分考察修改外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)條件的原因。該部分首先介紹了我國外觀設(shè)計(jì)專利的總體保護(hù)現(xiàn)狀,指出我國外觀設(shè)計(jì)專利數(shù)量雖多但是質(zhì)量不高;接著簡要介紹了國外一些主要國家對外觀設(shè)計(jì)進(jìn)行保護(hù)所采取的方式。最后通過三個(gè)案例詳細(xì)闡述了我國外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)過低、重復(fù)授權(quán)現(xiàn)象嚴(yán)重、審查標(biāo)準(zhǔn)不統(tǒng)一等問題,指出為了改變這