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文檔簡介
1、雖然超大規(guī)模集成電路產(chǎn)業(yè)在摩爾定律的指引下已經(jīng)步入納米時代甚至非常接近摩爾定律的盡頭了,但是它仍然在快速發(fā)展中。工藝節(jié)點的不斷減小導(dǎo)致復(fù)雜度隨之不斷攀升,設(shè)計規(guī)則也越來越復(fù)雜,這些前所未有的挑戰(zhàn)都需要我們有更高效的測試芯片來保證它們的成品率。目前的測試芯片規(guī)模正在迅速擴(kuò)大,并且隨著工藝節(jié)點達(dá)到16nm甚至更低時,許多新的工藝缺陷隨之產(chǎn)生,需求的測試結(jié)構(gòu)的數(shù)目越來越多,龐大數(shù)目的測試結(jié)構(gòu)的布線問題也就越來越復(fù)雜。
本文結(jié)合當(dāng)前測
2、試芯片設(shè)計技術(shù)的不斷發(fā)展,通過對最近的VLSI芯片布線技術(shù)的分析,提出了傳統(tǒng)測試芯片布線流程改進(jìn)后的新的布線新流程,這種新的布線流程中所具有的創(chuàng)新點在于:
1)對具體的點對間布線算法進(jìn)行了新的探索,提出了新的點對間布線算法。通過提出“自由節(jié)點”和“節(jié)點邊界”等新的概念,該算法通過節(jié)點邊界的擴(kuò)張來實現(xiàn)自由節(jié)點的轉(zhuǎn)移,從而快速地從源節(jié)點向目標(biāo)節(jié)點擴(kuò)散,大大提高了搜索效率。該算法既克服了傳統(tǒng)迷宮算法基于遍歷網(wǎng)格的復(fù)雜度高的缺點,也無
3、需在龐大的網(wǎng)格中搜索障礙構(gòu)造子圖。理論分析和多個實例驗證的結(jié)果表明,該算法可以很好地解決點對間的布線問題且復(fù)雜度較低。
2)將測試芯片中原有的單一算法的布線流程調(diào)整為多步驟多算法的綜合布線流程,把測試芯片布線問題拆分為全局布線和詳細(xì)布線兩個步驟,在每一步中使用模式布線、單調(diào)布線和新提出的點對間布線算法等多種技術(shù)進(jìn)行布線,將布線時間縮短到原來的15%-25%,對縮短測試芯片的整體設(shè)計周期起到了一定的作用。該布線流程的可靠性和實用
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