基于掃描拼接的大面積光刻技術研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、激光干涉納米光刻是一種產(chǎn)生納米級周期性圖案的有效技術。焦深長，分辨率高，無掩膜，成本低是該技術的優(yōu)點。由于在工業(yè)生產(chǎn)制造中，需要大面積的有相應結(jié)構的材料表面，利用激光干涉光刻技術制造大面積拼接微結(jié)構具有靈活性強，結(jié)構簡單等優(yōu)點。
　　本文針對激光干涉光刻技術進行了理論分析的基礎上，設計了基于掃描拼接的大面積光刻系統(tǒng)。采用雙光束激光干涉曝光制造了單曝光點的微結(jié)構，并進行了有效面積的檢測，提出了利用方形光闌進行光斑優(yōu)化進而實現(xiàn)直角邊掃

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