大面積高精度PCB光刻技術(shù)的研究.pdf

1、近年來，隨著智能手機、平板電腦等高端電子產(chǎn)品的出現(xiàn)，要求印制電路板(PCB)的走線越來越窄，目前部分PCB產(chǎn)品的線寬已經(jīng)小于10μm，今后10內(nèi)10μm左右線寬的PCB將越來越流行，這類高密度PCB有著很好的市場前景。傳統(tǒng)的汞燈照明+接近式曝光方法已經(jīng)不能勝任這類高密度PCB生產(chǎn)的要求，為應(yīng)對今后高端電子產(chǎn)哭品對大面積高密度PCB需求，需要快速改進目前的PCB生產(chǎn)設(shè)備，并從經(jīng)濟方面考慮，研究出一些價廉物美的PCB生產(chǎn)設(shè)備，以滿足我國PC

2、B行業(yè)需求。
　　 本文重點研究10μm左右線寬的大面積高精密光刻機，主要內(nèi)容包括投影物鏡、和精密二維位移平臺。本文第三章介紹了了一種分辨率為4μm的DMD投影物鏡的設(shè)計。該投影物鏡的單次曝光面積Φ=5mm，該投影物鏡可以用于10μm左右線寬PCB的掩模板生產(chǎn)，適用于10μm左右線寬PCB的小規(guī)模打樣，也可用于TFT-LCD的生產(chǎn);本文第四章介紹了一種分辨率為8μm的等比投影光刻投影物鏡設(shè)計，該投影物鏡的單次曝光面積Φ=40mm

3、，可以用于10μm左右線寬PCB的大規(guī)模生產(chǎn)，也可用于ITO-LCD的生產(chǎn);本文第五章介紹了一種坐標反饋大行程精密二維位移平臺設(shè)計，該平臺的的行程為1100*600mm，定位精度達2μm，滿足大面積高精密PCB的生產(chǎn)要求。該平臺的驅(qū)動方式采用本文獨創(chuàng)的爬行牽引方式，可以使制造成本減少1/3以上，有著很好的應(yīng)用前景。
　　 通過ZEMAX光學(xué)設(shè)計軟件模擬，得到DMD光刻投影物鏡在空間頻率為125line/mm處的MTF＞0.62，

4、表明該投影物鏡具有優(yōu)于4μm的分辨率;通過離焦MTF分析，表明在空間125line/mm處，離焦量在-0.011到+0.017的范圍內(nèi)，MTF＞0.5，表明該投影物鏡至少有28μm的焦深。通過ZEMAX光學(xué)設(shè)計軟件模擬，等比投影物鏡在空間頻率為641ine/m處的MTF＞0.56，表明該投影物鏡具有優(yōu)于8μm的分辨率;通過離焦MTF分析，表明在空間125line/mm處，離焦量為-0.06到+0.02的范圍內(nèi)，MTF＞0.5，表明該投影