大面積PCB投影掃描式激光曝光機的研制.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著電子產品對大面積、高精度成像的需求,對印制電路板的設計與制造的要求也越來越高。這也推動了PCB生產所需的曝光設備的研制。同時,對制造成本的持續(xù)壓力,要求設備在滿足其性能需要的同時也要降低成本?？梢酝ㄟ^提高生產量、使用傳統(tǒng)光致抗蝕劑等關鍵因素。
　　 傳統(tǒng)的PCB曝光工具所存在的缺陷逐漸暴漏出來:基板尺寸有限、產量低、接縫誤差大,精度低,效益差,成本高等等。一種新型的激光投影成像(LPI)曝光應運而生,取代了傳統(tǒng)的汞燈曝光,采

2、用351nm的XeF準分子激光作為其光源。并且這種曝光是用傳統(tǒng)的光致抗蝕劑,傳統(tǒng)的融石英玻璃掩模版。
　　 基于LPI系統(tǒng)理論,我們研制了激光光刻設備,只要我們調整好合適的參數,該設備能夠實現在460mmx610mm基板區(qū)域內大面積曝光,并達到10μm的分辨力。它消除了當前光刻設備的限制。它的優(yōu)勢是可以在PCB制造中馬上得到應用而不需要對目前的光刻膠還有光刻工藝做任何改變。
　　 該設備由四個主要的部分組成:波長為351

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