鉭(V)金屬雜環(huán)化合物與二氧化碳、硅烷的反應(yīng)研究.pdf

1、d0前過渡金屬雜環(huán)氨基化合物是一類重要的化合物,由它們制備的金屬氮化物、金屬硅化物和金屬氧化物在微電子材料方面有著潛在的應(yīng)用價(jià)值,另外, d0前過渡金屬雜環(huán)氨基化合物在二氧化碳的固定與活化、C-H鍵的活化、催化氫胺烷基化反應(yīng)等方面起著非常重要的作用。本論文中,我們通過鉭(V)金屬雜環(huán)化合物(Me2N)3Ta[CH2Si(Me2)NSiMe3](1)與二氧化碳、硅烷反應(yīng)的研究來探索鉭雜環(huán)化合物新穎的化學(xué)性質(zhì)。
　　首先,利用鉭(V)

2、金屬雜環(huán)化合物(Me2N)3Ta[CH2Si(Me2)NSiMe3](1)與二氧化碳分子發(fā)生的插入反應(yīng)合成了一個(gè)獨(dú)特的鉭的碳酸硅脂亞胺化合物(Me2NCO2)2(Me3SiN)Ta[CH2Si(Me2)OOCNMe2](2)。在這個(gè)反應(yīng)中,我們發(fā)現(xiàn)三分子的CO2首先插入到Ta-Namide中,然后由于較大的空間擁擠效應(yīng),其中一個(gè)Me2NCO2-進(jìn)攻Si-N鍵,導(dǎo)致Si-N鍵的斷裂分別形成了Ta=N鍵和Si-O鍵,這個(gè)化合物的結(jié)構(gòu)已通過了

3、核磁共振、元素分析、X-ray單晶衍射的證實(shí)。
　　然后,我們發(fā)現(xiàn)(Me2N)3Ta[CH2Si(Me2)NSiMe3](1)與苯基硅烷反應(yīng)得到了氫橋化合物(Me2N)2[(Me3Si)2N]Ta[?-H]2(?-C-?2-CHSiMe2NSiMe3)Ta(NMe2)2(3),氘標(biāo)記實(shí)驗(yàn)表明Ta-D與所有的甲基發(fā)生了H-D交換。另外,化合物(Me2N)2[(Me3Si)2N]Ta[?-H]2(?-C-?2-CHSiMe2NSiMe