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1、該文從光刻基本過程入手,介紹了光刻機光學(xué)系統(tǒng)的基本組成、部分相干光透射成像的基本原理,提出了光學(xué)系統(tǒng)的雙線性模型,并在此基礎(chǔ)上詳細分析了仿真軟件SPLAT的仿真過程,其中著重分析了光學(xué)系統(tǒng)的傳輸交叉系數(shù)TCC的計算,包括不同照明系統(tǒng)下TCC的計算以及TCC計算中像差的處理.但是在OPC等應(yīng)用中,為了尋找適合的掩模補償圖形,必須迭代計算大量的空間稀疏分布的試探點成像,用SPLAT來處理這種稀疏空間點并不合適.在這里提出了一種基于卷積核的快
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