我國專利集中度測度指標研究.pdf

1、進入21世紀后,隨著經(jīng)濟全球化、知識分散化、技術融合化速度加快,企業(yè)對創(chuàng)新速度的要求越來越高,企業(yè)僅靠內(nèi)部研發(fā)已經(jīng)不能滿足市場競爭和經(jīng)濟增長的需求,于是開放式創(chuàng)新模式應運而生。當這種開放式創(chuàng)新模式席卷全球的時候,雖然中國知識產(chǎn)權理論已日趨完善,但知識產(chǎn)權實務的發(fā)展遇到了前所未有的困難,即在專利叢林多如繁星的今天,如何衡量某個技術領域或行業(yè)內(nèi)所有專利分布情況。為了解決這一難題,本文志在通過理論和多次實證分析篩選出一套可能適用于專利領域中的

2、集中度測度指標,通過這些專利集中度測度指標就能在一定程度上有效地衡量某技術領域或行業(yè)內(nèi)專利集中程度。
　　在現(xiàn)有研究的基礎上,筆者分別從國外相關研究和產(chǎn)業(yè)組織學領域中借鑒了一系列專利集中度測度指標。并且本文進行了三次實證分析,分別是我國各地區(qū)專利集中、我國前50位高校專利集中情況以及美國基因芯片技術專利集中實證分析,通過這三次實證分析篩選出了一系列適于應用在專利領域中的集中度測度指標。另外,本文的創(chuàng)新之處在于,通過實證分析找到了一