全方位注入沉積復(fù)合鍍膜控制系統(tǒng).pdf

1、論文研發(fā)的薄膜復(fù)合制備方法與裝置的控制系統(tǒng)充分利用磁控濺射、真空陰極弧光蒸發(fā)、離子注入等方法，為全方位注入沉積復(fù)合鍍膜表面改性提供所需等離子體，使之可以根據(jù)不同的工藝要求設(shè)計膜體的成分結(jié)構(gòu)，從而很容易獲得不同的改性膜層，來提高膜體的硬度、抗氧化性及熱穩(wěn)定性等。 論文根據(jù)全方位注入沉積復(fù)合鍍膜工藝要求，詳細闡述了真空鍍膜控制系統(tǒng)的總體設(shè)計方案及關(guān)鍵測控技術(shù)，同時，對控制系統(tǒng)中電磁兼容問題提出了詳細的設(shè)計方案。 針對生產(chǎn)過程

2、所需的真空環(huán)境，論文提出并采用變頻控制技術(shù)保證其高真空度。對于真空環(huán)境下的摻氣溫度控制，由于其具有升溫單向性、大慣性、大滯后、時變性的特點，很難用數(shù)學(xué)的方法建立精確的模型，本系統(tǒng)將模糊理論引入控制器的設(shè)計，提高了控制器的適應(yīng)性能。對于不斷變化的氣體介質(zhì)來說，其體積流量在溫度、氣壓改變時，其實際氣體的克分子流量將發(fā)生較大變化，而質(zhì)量流量幾乎不受溫度、壓力的影響，因此，本系統(tǒng)采用質(zhì)量流量計來測量氣體質(zhì)量流量，質(zhì)量流量控制器控制氣體流量。