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1、聚酰亞胺薄膜以其優(yōu)良的電氣性能、耐溶劑性能、耐高溫和耐輻射等多種優(yōu)異性能而被廣泛應(yīng)用于電氣電子領(lǐng)域。變頻技術(shù)和微電子技術(shù)的發(fā)展對(duì)聚酰亞胺薄膜提出了更高的要求,希望在其原有基礎(chǔ)上提高其熱導(dǎo)率和耐電暈壽命。自從1994年杜邦公司推出耐電暈聚酰亞胺(KaptonCR)薄膜和含氟聚酰亞胺(KaptonFCR)耐電暈薄膜以來,耐電暈材料的制備、性能以及納米材料在耐電暈性能的提高方面所起的作用成為各國(guó)學(xué)者研究的熱點(diǎn)。 本文通過加入納米粉體制
2、備了無機(jī)粉體/聚酰亞胺雜化膜,通過透射電鏡對(duì)納米粉體的形貌進(jìn)行了表征,研究了粉體種類、含量對(duì)雜化膜熱性能、力學(xué)性能及電性能的影響,并對(duì)實(shí)驗(yàn)室制膜工藝做了初步探討。 研究結(jié)果表明,膜厚和亞胺化時(shí)間對(duì)薄膜的力學(xué)性能有影響,實(shí)驗(yàn)室制得的薄膜與實(shí)際工廠生產(chǎn)的薄膜不同,實(shí)驗(yàn)室制得的薄膜越厚其力學(xué)性能越好,亞胺化時(shí)間對(duì)薄膜力學(xué)性能影響不大。納米粉體的加入能夠很好的提高雜化膜的熱導(dǎo)率和耐電暈性能。但不同種類的粉體對(duì)提高雜化膜的熱導(dǎo)率和耐電暈性
3、能效果不同。加入量在10%附近的納米SiO2粉體制得的雜化膜耐電暈壽命較長(zhǎng),比純亞胺薄膜提高了接近25倍。由于納米粒子的加入,在材料內(nèi)部造成了缺陷,使得雜化膜的常態(tài)擊穿場(chǎng)強(qiáng)和體積電阻率降低,浸水48h后的擊穿場(chǎng)強(qiáng)和體積電阻率降低明顯。在0~13.5%范圍,隨粉體含量的增加,擊穿場(chǎng)強(qiáng)呈下降趨勢(shì),加入量在5%附近下降不多,加入量在10%附近降低比較明顯。但雜化膜的熱導(dǎo)率和耐電暈壽命隨粉體含量的增加呈上升趨勢(shì)。納米粉體的加入對(duì)雜化膜力學(xué)性能有
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