PI-SiO-,2-納米雜化薄膜聚集態(tài)結構研究.pdf

1、近年來，聚酰亞胺/二氧化硅(PI/SiO2)納米雜化材料已成為合成高分子材料新的研究熱點。目前為止，國內外學者對PI/SiO2納米雜化薄膜已經進行了大量的研究，主要集中在PI/SiO2納米雜化薄膜的合成以及力學性能、熱性能、電性能等方面。關于不同摻雜條件對PI/SiO2雜化薄膜聚集態(tài)結構的影響研究較少，目前尚未形成完整的關于納米復合材料性能與聚集態(tài)結構之間關系的研究體系。 本文采用兩步法，兩相原位同步聚合技術制備PI/SiO2納

2、米雜化薄膜。以均苯四甲酸二酐(PMDA)和4，4′-二氨基二苯醚(ODA)為有機單體，通過其在N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)中的逐步縮聚反應制備聚酰胺酸(PAA)；以正硅酸乙酯(TEOS)為無機前驅體，通過其在DMAc的溶液中經溶膠-凝膠反應與聚酰胺酸原位同步生成無機相SiO2，得到雜化PAA膠液，經熱亞胺得到PI/SiO2納米雜化薄膜。本文采用傅立葉變換紅外光譜(FT-IR)、原子力顯微鏡(AFM)、掃描電子顯微鏡(SEM)、廣角X

3、射線衍射儀(WAXD)分析了PAA雜化膠液固體含量、水含量、溶劑和熱亞胺化工藝對PI/SiO2納米雜化薄膜聚集態(tài)結構的影響。 研究結果表明，本實驗工藝路線能夠成功制備出PI/SiO2納米雜化薄膜。以上四種工藝參數均對PI/SiO2納米雜化薄膜聚集態(tài)結構有不同程度的影響。當固體含量在一定范圍內時，SiO2粒子粒徑隨固體含量增加而增加。水含量過多或過少對雜化薄膜聚集態(tài)結構均產生不利影響。采用不同溶劑時，PI/SiO2納米雜化薄膜聚集