半導(dǎo)體晶元廠廠務(wù)制程相關(guān)系統(tǒng)改進(jìn).pdf

1、廠務(wù)的氣體、化學(xué)(包括CMP研磨液系統(tǒng))和純水系統(tǒng)為整條生產(chǎn)線提供氣體、化學(xué)品和純水，它們與芯片直接接觸，所以被稱為制程相關(guān)系統(tǒng)。制程相關(guān)系統(tǒng)的穩(wěn)定與否直接關(guān)系生產(chǎn)線生產(chǎn)是否正常，所以，在現(xiàn)代晶元廠的建造成本中，制程相關(guān)系統(tǒng)的建設(shè)費(fèi)用要占到一半以上的廠務(wù)建設(shè)費(fèi)用。本課題根據(jù)作者在8英寸、12英寸晶元廠的實(shí)際建廠和運(yùn)行經(jīng)驗(yàn)，系統(tǒng)介紹廠務(wù)制程相關(guān)系統(tǒng)中純水和化學(xué)系統(tǒng)的組成、結(jié)構(gòu)等各個(gè)方面，并針對(duì)一些制程相關(guān)系統(tǒng)的關(guān)鍵問(wèn)題，嘗試給出解決方案，

2、主要內(nèi)容如下：(1)純水系統(tǒng)節(jié)水設(shè)計(jì)純水系統(tǒng)設(shè)計(jì)往往只注重純水回收率一個(gè)指標(biāo)，但作者提出，應(yīng)該在純水系統(tǒng)設(shè)計(jì)，運(yùn)行的各個(gè)階段，系統(tǒng)的整個(gè)流程乃至全廠務(wù)系統(tǒng)中貫徹節(jié)水的觀念。本文分四個(gè)方向進(jìn)行探討：A.純水流程布置。B.流程中各步驟再生廢水回收。C.非純水系統(tǒng)排水回收至純水系統(tǒng)。D.系統(tǒng)運(yùn)行中廢水的回收。貫徹以上四個(gè)方面的各項(xiàng)措施，以設(shè)計(jì)用量為90立方米/小時(shí)的純水系統(tǒng)為例，經(jīng)過(guò)改良的純水系統(tǒng)夏天要比傳統(tǒng)純水系統(tǒng)多節(jié)水703立方米/天，冬

3、天也要多節(jié)水683立方米/天左右，不計(jì)入A、B、D項(xiàng)，僅C項(xiàng)就可以使純水回收率由傳統(tǒng)的65%提高到71%。(2)化學(xué)系統(tǒng)改進(jìn)化學(xué)系統(tǒng)是與無(wú)塵室生產(chǎn)線緊密相聯(lián)系的系統(tǒng)，因此，加強(qiáng)對(duì)無(wú)塵室設(shè)備的監(jiān)控，改進(jìn)關(guān)鍵系統(tǒng)的安全穩(wěn)定性就成為化學(xué)系統(tǒng)的主要著力之處。作者提出了以下幾條措施，一為要酸控制，有助于避免無(wú)塵室設(shè)備發(fā)生問(wèn)題時(shí)的錯(cuò)誤要酸；二為要酸時(shí)間計(jì)算，作者自己編寫(xiě)軟件，大大提高了計(jì)算要酸時(shí)間的效率，方便了運(yùn)轉(zhuǎn)工作。三為DEV混酸系統(tǒng)流程改進(jìn)，