大視場(chǎng)投影光刻物鏡的研究.pdf

1、光刻是大規(guī)模集成電路的制造過(guò)程中最為關(guān)鍵的工藝，光刻物鏡是光刻的核心，其性能直接決定了光刻的圖形傳遞能力。大視場(chǎng)投影光刻物鏡是目前光刻物鏡研究發(fā)展的一個(gè)方向，用來(lái)制作大面積、高分辨率的印刷板線路，其設(shè)計(jì)加工的要求比較高。本文首先對(duì)光刻物鏡的整個(gè)背景作了介紹，并且根據(jù)光刻物鏡研制中做重要的一個(gè)參量——分辨率，闡述了光刻物鏡的技術(shù)發(fā)展過(guò)程和未來(lái)的發(fā)展趨勢(shì)。 論文的主要工作是大視場(chǎng)投影光刻物鏡畸變檢測(cè)方法的研究。提出了針對(duì)大視場(chǎng)投影光

2、刻物鏡畸變的計(jì)算方法，并在完成的畸變特性測(cè)量裝置上進(jìn)行了8英寸的硅片測(cè)量。在這個(gè)基礎(chǔ)上，分析了光刻物鏡的畸變特性，對(duì)研制完成的物鏡我們檢驗(yàn)了其暴光分辨率和畸變特性，達(dá)到了系統(tǒng)設(shè)計(jì)的指標(biāo)要求。 此外，論文針對(duì)研制的8英寸視場(chǎng)的投影光刻物鏡，從光學(xué)設(shè)計(jì)要求出發(fā)，分析了影響光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量的各種主要誤差因素。通過(guò)ZEMAX軟件確定了我們的鏡頭的光學(xué)設(shè)計(jì)結(jié)果。并且進(jìn)一步地，通過(guò)ZEMAX模擬，確定了加工容差，并對(duì)其加工和裝校過(guò)程作了闡述