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1、微電子工業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵之一是超大規(guī)模集成電路的制造設(shè)備,而投影光刻物鏡是微電子專用光學(xué)設(shè)備中——分步投影光刻機(jī)的核心部件,其技術(shù)水平很大程度上決定了微電子技術(shù)的水平。本文研究源自中國(guó)電子科技集團(tuán)第四十五研究所一項(xiàng)軍工項(xiàng)目,主要內(nèi)容涉及高精度光刻鏡頭的研制。 由于投影光刻物鏡屬衍射極限物鏡,為實(shí)現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)的技術(shù)參數(shù)要求,其制作的關(guān)鍵在于合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),光學(xué)零、部件的加工及其裝校精度,以及相關(guān)的各種測(cè)試技術(shù)的保證。本文論述了亞微米
2、(g線或i線)5倍投影光刻物鏡制作中的幾項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)。 文中分析計(jì)算了因該光刻物鏡的大數(shù)值孔徑要求而帶來的系統(tǒng)組件多、重量大,從而引起變形大的問題,在此基礎(chǔ)上給出了對(duì)投影光刻物鏡結(jié)構(gòu)的改進(jìn)設(shè)計(jì)方案及相應(yīng)材料的選擇方法,并介紹了其技術(shù)實(shí)現(xiàn)的關(guān)鍵措施,即透鏡與鏡框的無應(yīng)力粘接-定心-校裝技術(shù)。 針對(duì)本文給出的鏡片與鏡框一體化設(shè)計(jì)制作的結(jié)構(gòu)方案,討論了相應(yīng)的高精度要求的透鏡中心厚度的測(cè)量方法,并分析了在透鏡中心厚度測(cè)試儀上進(jìn)行透
3、鏡中心厚度測(cè)試時(shí)常見的幾種誤差的影響。 在介紹膠合對(duì)心儀原理的基礎(chǔ)上,本文著重介紹了大口徑高精度無變形定心膠合技術(shù),包括粘接膠的選擇、零件的清潔、膠合及定心調(diào)校、應(yīng)力的退火消除及檢驗(yàn)等。 結(jié)合EM-9500光刻物鏡裝配、調(diào)整系統(tǒng)在本文研究工作中的應(yīng)用,介紹了投影光刻物鏡的裝配——精加工工藝過程及精度保證措施,同時(shí)給出了投影光刻物鏡的檢測(cè)與實(shí)拍結(jié)果。測(cè)試結(jié)果表明在本課題的研究中所運(yùn)用的各種技術(shù)和方法都是成功的。 本
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