氨法制電鋅新工藝及電積添加劑影響研究.pdf

1、本文針對用常規(guī)酸法處理工藝復雜的含雜質元素鐵、鎘、銅較高的氧化鋅礦，采用了氨法工藝。著重研究和探討了工藝流程選擇、工藝參數優(yōu)化及各參數對結果的影響。 本工藝采用氯化銨一氨水溶液作浸出劑，使之與氧化鋅礦反應得鋅氨配合離子而使鋅進入溶液。通過理論分析及探索實驗確定浸出劑濃度為：NH<,4>Cl5mol/L，NH<,3>·H<,2>O 2.5mol/L；通過正交實驗考察溫度，時間，液固比，轉速這幾個因素對鋅礦浸出率的影響，確定浸出過程

2、優(yōu)化條件為：溫度：40℃；時間：3h；液固比：8：1；轉速：730r/min。在此優(yōu)化條件下，鋅礦浸出率可達74.2％。實驗結果表明：液固比和時間對鋅礦浸出率影響顯著，其中液固比對浸出率影響最大；轉速和浸出溫度對鋅礦浸出率影響不大。 凈化工藝中采用膠體吸附法除砷和銻；鋅粉置換法除去銅、鎘等其他標準電極電位比鋅高的重金屬離子。凈化過程優(yōu)化條件為：溫度為常溫25℃，凈化時間為90min，F(xiàn)eCl<,3>和H<,2>O<,2>加入量分

3、別為2.5 g/L和1.5ml/L，鋅粉加入量為3g/L。凈化后液達到電解標準。 通過電積過程分析選擇涂釕鈦板為陽極，鋁板為陰極。電積優(yōu)化條件為：溫度為常溫；陰極電流密度為500A/m<'2>；異極距37mm；添加劑T-A膠、T-B和T-C醇加入量分別為0.1g/l、0.05g/l和0.1g/l。在上述條件下可得到表面平整致密，符合工業(yè)要求的鋅片。 通過考察添加劑和鋅離子濃度對電積工藝的影響得出：T-A膠量對電積工藝影響