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1、光干涉計(jì)量測(cè)試技術(shù)是一種高精度測(cè)量技術(shù)，在光學(xué)系統(tǒng)光學(xué)參數(shù)測(cè)量上有廣泛用途。結(jié)合CXM100-2W式干涉儀的研制，研究了項(xiàng)目所涉及的關(guān)鍵技術(shù)。綜述了干涉儀在光學(xué)面形，光學(xué)系統(tǒng)，像質(zhì)評(píng)價(jià)上的一些應(yīng)用。研究了測(cè)量光學(xué)材料的折射率不均勻性5種方法，建立了四步測(cè)量法的數(shù)理模型，并且在所研制的CXM100-2W式干涉儀上進(jìn)行了樣品材料的具體測(cè)量，在消除了系統(tǒng)誤差的情況下，準(zhǔn)確的得到了樣品材料的折射率不均勻性分布。針對(duì)實(shí)驗(yàn)室球徑儀長(zhǎng)期使用后測(cè)量環(huán)磨
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