2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、隨著集成電路特征尺寸的不斷地縮小,工業(yè)上使用的193nm光刻波長已經(jīng)達(dá)到了分辨率極限。短期內(nèi)極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography,EUVL)又難以投入生產(chǎn),雙重圖形技術(shù)(Double Patterning Technology)成為了解決光刻問題的最有效方法。但是,在實(shí)際的設(shè)計(jì)當(dāng)中,這樣雙重圖形版圖的分解并不總是可行的,尤其是在具有復(fù)雜圖形的金屬層中。這時(shí)需要插入縫合點(diǎn)將完整圖形進(jìn)行切割,并將分解后

2、的圖形分配到不同掩膜版上,以此消除圖形沖突。但引入過多的縫合點(diǎn)也會導(dǎo)致光刻質(zhì)量下降,線端極易產(chǎn)生光刻畸變,從而造成電路故障。
  本研究提出一種基于窗口的雙重圖形版圖分解方法。具體步驟為:根據(jù)布線后的版圖實(shí)際尺寸,按照一定規(guī)則將版圖虛擬拓展為正方形;使用圖形匹配的方式對原始版圖進(jìn)行簡單矩形分解,為奇數(shù)環(huán)的構(gòu)建做好準(zhǔn)備;根據(jù)拓展后版圖的尺寸,將拓展后版圖劃分為若干窗口,為最后的迭代分解做好準(zhǔn)備;提取出跨越窗口的圖形,利用奇數(shù)環(huán)構(gòu)建的

3、方法對這些圖形進(jìn)行版圖分解,并保持后續(xù)步驟中,它們的優(yōu)先級最高,不首先對它們進(jìn)行操作;在每一輪迭代窗口內(nèi)部構(gòu)建奇數(shù)環(huán),通過窗口的迭代完成雙重圖形技術(shù)版圖的分解。在45納米工藝條件下進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,對電路c5315、c7552、s38417的M2層使用本文出的基于窗口的雙重圖形版圖分解方法后,與普通的版圖分解方法相比較,本方法引入縫合點(diǎn)數(shù)量分別可以減少11.34%、14.38%、8.1%。同時(shí)進(jìn)行了光刻仿真,與普通雙重圖形版圖分

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