含三氰基二氫呋喃結(jié)構(gòu)的非線性光學(xué)材料的合成及性能研究.pdf

1、隨著高速光通訊、光信息處理和光電子學(xué)的飛速發(fā)展，作為集成光學(xué)器件的關(guān)鍵材料，非線性光學(xué)（Nonlinear Optic，NLO）材料得到越來越廣泛的重視。其中有機非線性光學(xué)材料由于具有較大的非線性光學(xué)系數(shù)、快的響應(yīng)速度、高損傷閾值、低介電常數(shù)及良好的可加工性能，更是受到了科研工作者的深切關(guān)注，已成為新一代功能材料的研究熱點。
　　本文綜述了非線性光學(xué)特別是有機非線性光學(xué)材料的研究進展，在此基礎(chǔ)上，以增大分子二階非線性系數(shù)和適應(yīng)器件

2、的制作需求為目的，設(shè)計并合成了含新型吸電子基團的有機非線性光學(xué)分子，通過改變共軛鏈的長度合成了一系列相關(guān)化合物。探討了相關(guān)因素對反應(yīng)的影響規(guī)律，通過1H-NMR、IR和元素分析分別對主要產(chǎn)物的結(jié)構(gòu)進行了表征。
　　TGA測試曲線結(jié)果表明，兩種主要產(chǎn)物2,2-二甲基-3(4-二乙氨基苯乙烯基)-4-氰基-5(二氰基亞甲基)-2,5-二氫呋喃（II）和4-二甲胺基-4’{[2,2-二甲基-4-氰基-5(二氰基亞甲基)-2,5-二氫呋喃