雙響應可降解光刻膠的制備及應用.pdf

1、納米壓印光刻技術是一種應用于制備集成電路的最有前途、新一代的光刻技術，它克服了傳統(tǒng)光學光刻技術中圖形分辨率受最短曝光波長的物理限制，對信息技術的發(fā)展起著重要作用。本論文研究設計了一種通過硫醇-烯“點擊化學”聚合和香豆素二聚得到主鏈含有可水解的酸酐和可逆交聯(lián)劑香豆素的交聯(lián)網(wǎng)狀結構，能對pH值和紫外光雙重響應的可降解光刻膠，并將其應用于微型圖案的制備。主要目的是解決納米壓印過程中的界面問題，降低模板的清洗難度，提高模板的使用壽命和降低環(huán)境污

2、染及生產(chǎn)成本。
　　首先，我們設計并合成了一種含香豆素的可逆交聯(lián)劑5，7-二丙烯酰氧基-4-甲基香豆素(DAMC)，利用核磁共振儀、傅里葉紅外光譜儀、質譜儀和元素分析對其結構進行表征。將其與3，6-二氧雜-1，8-辛烷二硫醇(EGDT)、丙烯酸酐(ALA)和光引發(fā)劑α，α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮(DMPA)復配得到對pH值和紫外光雙重響應的可降解型光刻膠。
　　其次，研究了該光刻膠的化學特性和物理特性，包括反應動力學、透光