光刻概況及光刻前沿技術(shù)探討——光刻膠的研究.pdf

1、光刻在半導(dǎo)體集成電路制造工藝中，無論是從占用的資金、技術(shù)還是人員來看，都有舉足輕重的地位。光刻工藝的發(fā)展歷史就是集成電路的發(fā)展歷史，光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀就是集成電路的發(fā)展現(xiàn)狀，不論是最低端的，還是今天最為先進(jìn)的集成電路制造，光刻技術(shù)水平始終決定著集成電路的生產(chǎn)水平。 CadenceVirtuoso可以用于繪制光刻測試用的標(biāo)準(zhǔn)光掩膜板。本文中設(shè)計(jì)了不同線寬的孤立線條以及1:1和1:2的稠密線條用于光刻研究，并且生成了GDSII數(shù)據(jù)文

2、件，取得了階段性的成果。此外，本文對(duì)利用Windows操作系統(tǒng)、BorlandDelphi7軟件、計(jì)算機(jī)RS232接口及485通訊接口、MicroChip公司的PIC16F914單片機(jī)和SPS0606硅光電池搭建的探索性的、用于光強(qiáng)度數(shù)據(jù)采集的平臺(tái)也做了介紹。 光刻膠是光刻工藝中極為重要的圖形轉(zhuǎn)移載體，在生產(chǎn)中，其涂覆的膠膜厚度、均勻性、分辨率、靈敏度、抗刻蝕性能、制程寬容度、駐波效應(yīng)等指標(biāo)是非常重要的技術(shù)指標(biāo)。紫外-可見分光光

3、度法是眾多在線和非在線膜厚測量技術(shù)手段中的一種，它的測量基于比爾-朗伯定律推導(dǎo)出的吸光物質(zhì)厚度與紫外-可見吸收具有的線性關(guān)系，借助紫外-可見分光光度計(jì)實(shí)施測量。與其它膜厚測量技術(shù)相比，紫外-可見分光光度法實(shí)施便捷、快速、準(zhǔn)確、無損，并得益于此而在顯示器制造行業(yè)，或其它行業(yè)的玻璃、石英或透明有機(jī)物襯底為基質(zhì)材料的光刻領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。 本文使用ShimadzuUV-2201型紫外-可見分光光度計(jì)完成了光刻膠膜厚的測量--Hi