基于擴張狀態(tài)觀測器的偏壓電源模糊控制策略研究.pdf

1、由于電弧離子鍍技術具有沉積速率高、離化率高、膜層致密和結合力強等優(yōu)勢，在鍍膜工藝中得到了廣泛應用。然而電弧離子鍍的雙放電回路使得工藝環(huán)境下會發(fā)生劇烈的負載擾動，同時在電弧的熱作用下靶材上會產(chǎn)生熔滴顆粒，若無法保證負載擾動下電源的輸出特性，熔滴就會穿過靶材和工件之間鞘層，到達工件膜層表面，產(chǎn)生“大顆?，F(xiàn)象”，這也是咆弧離子鍍在高性能膜層場合應用的瓶頸，因此保證偏壓電源在擾動下的輸出特性顯得非常重要。
　　為了滿足工藝環(huán)境下電源輸出特

2、性需求，提高工件表面的膜層性能，本文針對于偏壓電源的負載特性，提出了一種基于擴張狀態(tài)觀測器的模糊控制策略。文章首先在工藝環(huán)境下對電弧離子鍍負載特性進行研究，分析了影響負載特性的因素及與系統(tǒng)輸出的關系，同時結合電弧離子鍍負載特性分析，建立了偏壓電源的數(shù)學模型；然后在基于擴張狀態(tài)觀測器的模糊控制系統(tǒng)設計中，根據(jù)系統(tǒng)設計指標利用相平而法設計了模糊控制規(guī)則，并利用李業(yè)普諾夫理論對模糊控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性進行了分析；另外，通過在擴張狀態(tài)觀測器建模中引