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1、本文以聚酰亞胺薄膜(PI)為研究對(duì)象,采用電子順磁共振技術(shù)(EPR)、光學(xué)透過率測(cè)試、傅里葉紅外光譜及拉曼光譜等現(xiàn)代分析方法,研究了材料在綜合輻照條件下光學(xué)性能退化規(guī)律,以及輻照誘發(fā)自由基缺陷的演化機(jī)制,建立了時(shí)效過程中光學(xué)性能與自由基演化之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系。
研究表明,綜合輻照會(huì)導(dǎo)致聚酰亞胺分子鏈發(fā)生斷裂,形成自由基g值為2.0025,并且g值不隨輻照能量及注量的改變而發(fā)生變化。綜合輻照自由基的含量隨著輻照注量的提升先增加后減少
2、,材料光學(xué)吸收率具有相同的變化趨勢(shì),而質(zhì)子和電子單獨(dú)輻照自由基的g值也為2.0025,但自由基種類不同,且自由基含量隨注量的增加一直上升,光學(xué)性能損傷持續(xù)加重。
聚酰亞胺在時(shí)效過程中,其自由基的含量逐漸降低,演化規(guī)律符合指數(shù)加線性的模型,其中指數(shù)部分代表了材料內(nèi)部自由基之間的復(fù)合反應(yīng),線性部分代表了材料表面自由基的中和效應(yīng)。聚酰亞胺的光學(xué)吸收率在空氣中也會(huì)逐漸降低,同樣以指數(shù)加線性的規(guī)律回復(fù),表征自由基復(fù)合的特征時(shí)間常數(shù)τra
3、dical值與表征光學(xué)性能回復(fù)的特征時(shí)間常數(shù)τoptical值基本相等,說明了材料光學(xué)性能的回復(fù)與內(nèi)部自由基的演化有著直接的聯(lián)系。
電子輻照誘發(fā)的自由基在空氣中衰減速度很快,表征自由基復(fù)合的特征時(shí)間常數(shù)τradical值約為0.1h,質(zhì)子輻照誘發(fā)自由基復(fù)合的特征時(shí)間常數(shù)τradical值為1.2h,而綜合輻照的自由基復(fù)合特征時(shí)間常數(shù)介于二者之間為0.49h和0.59h。說明了電子誘發(fā)的自由基在室溫下復(fù)合速度最快,質(zhì)子誘發(fā)的自由
4、基復(fù)合速度最慢,綜合輻照介于二者之間,且復(fù)合的速度與輻照粒子的能量有關(guān)。
通過對(duì)內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行測(cè)試,發(fā)現(xiàn)輻照過程中聚酰亞胺分子結(jié)構(gòu)被破壞,酰胺環(huán)發(fā)生了開環(huán)反應(yīng),并伴有表面碳化現(xiàn)象,質(zhì)子輻照后材料表面的碳化程度隨輻照注量的提升而增加,綜合輻照后表面碳化現(xiàn)象程先增加后降低的趨勢(shì),其原因是高濃度自由基導(dǎo)致材料表面活性提高,出現(xiàn)羰基化反應(yīng),造成羰基含量增加,減緩了材料的光學(xué)性能損傷。
綜合輻照條件下自由基含量和光學(xué)性能隨注量的
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