

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)
文檔簡介
1、微測輻射熱計是基于MEMS技術(shù)的第三代非制冷型紅外探測器,在民用領(lǐng)域和軍事領(lǐng)域內(nèi)都有非常廣泛的應用前景,其中紅外敏感薄膜材料是微測輻射熱計的基礎(chǔ)組成部分。TCR參數(shù)是紅外敏感薄膜材料熱學參數(shù)中的重要指標,它直接決定了該薄膜材料是否適于制作微測輻射熱計像元,而且與像元的響應度,噪聲等效溫差等性能參數(shù)有關(guān),能夠影響到微測輻射熱計的性能優(yōu)劣。對TCR參數(shù)的測試,一方面可以評估微橋式結(jié)構(gòu)的硅鍺/硅多量子阱薄膜材料樣片的熱學性能,另一方面測試結(jié)果
2、可以為改進硅鍺/硅多量子阱薄膜材料制備工藝提供指導。
本文基于硅鍺/硅多量子阱像元陣列的工作原理,熱學結(jié)構(gòu)和材料特性,完成了硅鍺/硅多量子阱紅外敏感薄膜材料實驗測試系統(tǒng)的設(shè)計制作,用于測試真空封裝條件下硅鍺/硅多量子阱薄膜材料微橋式結(jié)構(gòu)樣片的TCR參數(shù),并分析計算了該薄膜材料樣片的熱容與熱導,評估了薄膜材料樣片的熱學性能。
論文首先立足于微測輻射熱計工作原理的分析,建立了脈沖電流驅(qū)動下微橋式結(jié)構(gòu)硅鍺/硅多量子阱敏感像
3、元的數(shù)學模型,進行了實驗測試系統(tǒng)總體設(shè)計方案的論證。
其次,依據(jù)系統(tǒng)總體設(shè)計方案,設(shè)計制作了實驗測試系統(tǒng)電路,其包括:像元陣列驅(qū)動電路,像元陣列數(shù)據(jù)采集電路和LabVIEW數(shù)據(jù)處理程序。
像元陣列驅(qū)動電路負責提供硅鍺/硅多量子阱像元陣列的脈沖驅(qū)動電流;像元陣列數(shù)據(jù)采集電路包括像元信號調(diào)理電路,ADC電路,F(xiàn)PGA主控制器和USB2.0通信控制器電路等部分,其中以FPGA為控制核心,負責實驗測試系統(tǒng)整體的時序控制;La
4、bVIEW數(shù)據(jù)處理程序包括實驗測試系統(tǒng)中USB2.0通信設(shè)備的驅(qū)動程序,以及硅鍺/硅多量子阱薄膜材料樣片數(shù)據(jù)采集與處理程序。
本文最后開展了實驗測試工作。首先對硅鍺/硅多量子阱實驗測試系統(tǒng)進行了性能評估,實驗測試系統(tǒng)的TCR測量精度為1%,滿足TCR參數(shù)測試要求;其次對真空封裝條件下的薄膜材料樣片進行了TCR參數(shù)測試,薄膜材料樣片TCR平均值達到2.24%/℃,然后對薄膜材料樣片熱導和熱容進行了分析計算,評估了薄膜材料樣片的熱
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 基于硅鍺-硅多量子阱材料的非制冷紅外焦平面陣列研究.pdf
- 硅基薄膜量子阱及其材料的研究.pdf
- 摻雜鍺硅量子阱的電學性質(zhì)研究.pdf
- 富硅氮化硅和納米硅多層量子阱硅基發(fā)光薄膜與器件.pdf
- 圖案硅襯底上鍺硅量子點生長.pdf
- 鍺硅低維量子結(jié)構(gòu)制備研究.pdf
- 鍺硅量子點的光學電學特性.pdf
- 反應磁控濺射ZnO薄膜多量子阱及合金特性研究.pdf
- 鍺硅低維量子結(jié)構(gòu)的電學特性.pdf
- 鍺硅雙層量子點的電學特性研究.pdf
- 鍺硅核殼型納米線器件量子輸運性質(zhì)的實驗.pdf
- 鍺、硅量子點摻雜二氧化鈦復合納米薄膜材料制備及其表征.pdf
- 多晶硅薄膜材料參數(shù)在線測試系統(tǒng)研究.pdf
- VHF-PECVD法制備非晶硅鍺薄膜材料的研究.pdf
- 高應變InGaAs多量子阱材料外延及發(fā)光特性.pdf
- 鍺硅量子環(huán)生長及其機制的研究.pdf
- UHVCVD生長鍺硅薄膜及其電學性能研究.pdf
- GaN-AlGaN多量子阱薄膜微結(jié)構(gòu)與光電性能研究.pdf
- 硅量子點鑲嵌薄膜材料的非線性光學性質(zhì).pdf
- 鍺硅核殼型納米線器件量子輸運性質(zhì)的實驗研究.pdf
評論
0/150
提交評論