光刻工藝中的曲面膠厚檢測.pdf

1、隨著光刻工藝的不斷發(fā)展，平面激光直寫技術日趨成熟，凸面激光直寫技術成為了光刻新的發(fā)展方向。國內長春光機所，國外夫朗和費學院都在凸面激光直寫技術上取得了一定的成就。因此，曲面光刻膠層厚度分布的測量成為了一個重要的課題，也是本文的研究方向。本文介紹了光譜反射率法測量曲面光刻膠層厚度分布研究情況，其中包括了測量的原理，各個實驗光路的構建，實驗的實施及數據的分析。
　　 光譜反射率法測量曲面光刻膠層的厚度分布，通過激光照射膠層表面，用光

2、功率計或面陣CCD等測量工具記錄光強變化，計算機處理數據，實現(xiàn)對光刻膠層厚度的檢測。整個實驗系統(tǒng)由激光光源、光學元件、測量元件、計算機四個部分組成。
　　 課題的研究從平面光刻膠層入手，到曲面光刻膠層。本文詳細介紹了平面透射法，平面反射法，凸面逐點法的研究及曲面全場法的初步實驗。針對平面光刻膠層基底性質的不同，進行了平面透射法和平面反射法研究，實驗得到了理想的數據，驗證了光譜反射率法測量光刻膠層厚度分布理論的可行性。通過研究發(fā)現(xiàn)

3、凸面光刻膠層在理論上就是不均勻的，根據凸面光刻膠層的結構特點，進行了凸面逐點測量法的研究工作，得到凸面光刻膠層的厚度分布情況，對誤差進行了分析討論，提出了提高精度的方法。在凸面逐點法的基礎上，進行了曲面全場法的初步研究工作，構建曲面全場法的測量光路，得到了較為理想的實驗數據，為后續(xù)實驗打下一定基礎。
　　 本課題首次針對平面光刻膠層和凸面光刻膠層的厚度分布，提出了一種可行的測量方法，并通過實驗驗證了這種光譜反射率法測量光刻膠層厚