磁控濺射靶面電磁場(chǎng)智能控制與刻蝕均勻性研究.pdf

1、普通的磁控濺射往往存在刻蝕不均勻和靶材利用率低的問(wèn)題，本文研究了通過(guò)改變磁控濺射的外加電磁場(chǎng)來(lái)進(jìn)行刻蝕的新方法。這個(gè)方法就是通過(guò)控制磁控濺射磁場(chǎng)中磁性線圈的勵(lì)磁電流，讓來(lái)自磁性線圈的變化的勵(lì)磁電流發(fā)揮磁控作用。在外加變化的磁場(chǎng)作用下，靶面被刻蝕的狀態(tài)比普通磁控濺射的要均勻得多?？涛g深度值是從邊緣到中間逐漸增大的，靶面沒(méi)有出現(xiàn)通常的刻蝕環(huán)。因此這種磁控配置大大提高了刻蝕的均勻性和靶材的利用率。 要想控制好磁控濺射的刻蝕形貌，就必須

2、對(duì)勵(lì)磁電流進(jìn)行智能控制。因此，本課題設(shè)計(jì)了一款脈沖發(fā)生器來(lái)對(duì)線圈中的勵(lì)磁電流進(jìn)行控制。本文結(jié)合“非平衡磁控濺射鍍膜機(jī)”設(shè)備，圍繞“磁控濺射靶面電磁場(chǎng)智能控制與刻蝕均勻性研究”這一豐顥展開(kāi)了研究，提出了一套切實(shí)可行的解決方案，給出了具體的電路設(shè)計(jì)。 針對(duì)本課題的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，本文對(duì)它們進(jìn)行了應(yīng)用回歸分析和建模。并且還應(yīng)用LabVIEW8.2軟件針對(duì)整個(gè)控制系統(tǒng)和實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行了虛擬儀表的設(shè)計(jì)。本文所設(shè)計(jì)的虛擬儀表主要用于脈沖控制信號(hào)和對(duì)