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文檔簡介
1、激光打標(biāo)技術(shù)在近年來得到了快速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用,已經(jīng)成為了一種重要的標(biāo)刻手段。由于技術(shù)成熟、使用壽命長、加工精度好、效率高等優(yōu)點(diǎn),二氧化碳激光器和Nd:YAG激光器在激光打標(biāo)中占有很大的席位。它們分別發(fā)射10.6μm和1.06μm的紅外激光。但是某些材料對紅外激光吸收率不高,為獲得清晰的標(biāo)刻效果,就需要增加激光光源的功率和重復(fù)率。這樣做帶來的問題是對材料的非標(biāo)刻區(qū)的熱損傷及熱擴(kuò)散比較嚴(yán)重、加工精度不高、打標(biāo)效果不好。這些缺點(diǎn)在某些應(yīng)用
2、中是無法接受的,因此開發(fā)其它波長的激光打標(biāo)光源就顯得勢在必行了。目前國內(nèi)外都在大力發(fā)展紫外激光打標(biāo),如準(zhǔn)分子激光和二極管泵浦紫外激光(DPSS)打標(biāo),由于某些材料(特別是金屬材料)對紫外光的吸收大,并且由于紫外激光具有很短的脈沖寬度,激光對材料的作用只發(fā)生在材料的最表層,因此紫外激光被稱為“冷激光源”。這樣就彌補(bǔ)了以上兩種紅外激光器的缺陷。 本文試圖從理論上研究激光光源打標(biāo)的物理機(jī)制,并給出一些定量的計(jì)算結(jié)果對不同波長激光在不同
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