第五章氧化還原滴定法習(xí)題及解答

1、第五章第五章氧化還原滴定法習(xí)題及解答氧化還原滴定法習(xí)題及解答`一、名詞解釋1.氧化還原滴定：2.電極電位：3.標(biāo)準(zhǔn)電位：4.條件電極電位：5.誘導(dǎo)反應(yīng)：6自身指示劑：7.顯色指示劑：8.高錳酸鉀法：9.。重鉻酸鉀法：10.碘量法：二、二、填空題1(1)用KMnO4滴定Fe2時(shí)Cl的氧化還原速率被加速_________。(2)MnO4滴定C2O42時(shí)，紅色的消失由慢到快_________。(3)Ag存在時(shí)，Mn2被S2O82氧化為MnO4

2、_________。A.催化反應(yīng)B.自動(dòng)催化反應(yīng)C.副反應(yīng)D.誘導(dǎo)反應(yīng)2、向20.00mL0.1000molL的Ce4溶液分別加入15.00mL及25.00mL0.1000molL的Fe2溶液，平衡時(shí)，體系的電位分別為_________及_________。（；）3、配制I2標(biāo)準(zhǔn)溶液時(shí)，必須加入KI，其目的是___________________________；以As2O3為基準(zhǔn)物質(zhì)標(biāo)定I2溶液的濃度時(shí)，溶液應(yīng)控制在pH為______

3、___左右。4、稱取K2Cr2O7基準(zhǔn)物質(zhì)時(shí)，有少K2Cr2O7量撒在天平盤上而未發(fā)現(xiàn)，則配得的標(biāo)準(zhǔn)溶液真實(shí)濃度將偏________；用此溶液測(cè)定試樣中Fe的含量時(shí)，將引起_________誤差（填正或負(fù)），用它標(biāo)定Na2S2O3溶液，則所得濃度將會(huì)偏________；以此Na2S2O3溶液測(cè)定試樣中Cu含量時(shí)，將引起_______誤差（正或負(fù)）。5、已知在1molLHCl介質(zhì)中，則下列滴定反應(yīng)：2Fe3Sn2=2Fe2Sn4平衡常數(shù)為

4、_________；化學(xué)計(jì)量點(diǎn)電位為_________；反應(yīng)進(jìn)行的完全程度c(Fe2)／c(Fe3)為________。6、已知在1molLHCl介質(zhì)中；，則以Fe3滴定Sn2至99.9%時(shí)的平衡電位為_________；化學(xué)計(jì)量點(diǎn)電位為_________；滴定至100.1%時(shí)C、MnO4—S24H=Mn2SO2↑2H2OD、2MnO4—S24H=2MnO4—SO2↑2H2O6、用基準(zhǔn)物Na2C2O4標(biāo)定配制好的KMnO4溶液，其終點(diǎn)顏

5、色是（）A、藍(lán)色B、亮綠色C、紫色變?yōu)榧兯{(lán)色D、粉紅色7、用Na2C2O4標(biāo)定高錳酸鉀時(shí)，剛開始時(shí)褪色較慢，但之后褪色變快的原因（）A、溫度過(guò)低B、反應(yīng)進(jìn)行后，溫度升高C、Mn2催化作用D、高錳酸鉀濃度變小8、間接碘量法若在堿性介質(zhì)下進(jìn)行，由于（）歧化反應(yīng)，將影響測(cè)定結(jié)果。A、S2O32B、IC、I2D、S4O629、已知EoCl2Cl=2.85VEol2I=1.36VEoBr2Br=1.08V則還原能力次序?yàn)椋ǎ〢、BrClFB、FB

6、rClC、ClFBRD、BrCLF10、用H2C2O42H2O標(biāo)定KMnO4溶液時(shí)，溶液的溫度一般不超過(guò)（）以防H2C2O4的分解。A、60℃B、75℃C、40℃D、85℃11、為減小間接碘量法的分析誤差，下面哪些方法不適用（）A、開始慢搖快滴，終點(diǎn)快搖慢滴B、反應(yīng)時(shí)放置于暗處C、加入催化劑D、在碘量瓶中進(jìn)行反應(yīng)和滴定12、當(dāng)增加反應(yīng)酸度時(shí)，氧化劑的電極電位會(huì)增大的是（）A、Fe3B、I2C、K2Cr2O7D、Cu213、重鉻酸鉀滴定法

7、測(cè)鐵加入H3PO4的作用主要是（）A、防止沉淀B、提高酸度C、降低Fe3Fe2電位使突躍范圍增大D、防止Fe2氧化14、重鉻酸鉀法滴定鐵的操作中加入HgCl2主要是為了（）A、氧化Fe2B、掩蔽Fe3C、除去H2OD(zhuǎn)、除去過(guò)量SnCl215、配制淀粉指示劑加入HgI2是為了（）A、抑制細(xì)菌生長(zhǎng)B、加速溶解C、易于變色D、防止沉淀16、重鉻酸鉀法中，為減小Cr3的綠色影響終點(diǎn)的觀察，常采取的措施是（）A、加掩蔽劑B、加有機(jī)溶劑萃取除去C