0.18μm光刻制程中顯影工藝的優(yōu)化_第1頁
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文檔簡介

1、 上海交通大學碩士學位論文 0.18µm 光刻制程中顯影工藝的優(yōu)化 碩 士 研 究 生： 吳 敏 學 號： 1102102030 導 師： 榮國光 副 導 師： 阮春軍 申 請 學 位： 工程碩士 學 科： 集成電路工程 所 在 單 位： 微電子學院 答 辯 日 期： 2013 年 5 月 12 日 授予學位單位： 上海交通大學 上海交通大學 上海交通大學 上海交通大學 上海交通大學

2、 學位論文原創(chuàng)性聲明 學位論文原創(chuàng)性聲明 學位論文原創(chuàng)性聲明 學位論文原創(chuàng)性聲明 本人鄭重聲明： 所呈交的學位論文 《0.18µm 光刻制程中顯影工藝的優(yōu)化》，是本人在導師的指導下，獨立進行研究工作所取得的成果。除文中已經(jīng)注明引用的內(nèi)容外，本論文不包含任何其他個人或集體已經(jīng)發(fā)表或撰寫過的作品成果。對本文的研究做出重要貢獻的個人和集體，均已在文中以明確方式標明。本人完全意識到本聲明的法律結(jié)果由本人承擔。 學位論文作者簽名：日期：

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