版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、多晶硅太陽(yáng)電池作為一種低成本、高效率、廣泛應(yīng)用的太陽(yáng)電池會(huì)在未來(lái)較長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)保持主流地位。在目前光伏市場(chǎng)產(chǎn)能過剩,價(jià)格下跌背景下,各太陽(yáng)電池生產(chǎn)廠商均積極采措施,通過各種工藝改進(jìn)手段提高其多晶硅電池片的轉(zhuǎn)換效率。目前多晶硅電池表面制絨工藝優(yōu)化是提高電池轉(zhuǎn)化效率的有效方法之一,且成本較低。本論文對(duì)多晶硅片的表面結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究,提出現(xiàn)有工業(yè)化生產(chǎn)制絨工藝存在的問題,采用酸腐蝕液調(diào)節(jié)方法優(yōu)化多晶硅表面結(jié)構(gòu),以達(dá)到降低多晶硅表面反射率的目的。
2、r> 工業(yè)上一般采用酸腐蝕工藝實(shí)現(xiàn)多晶硅表面絨面結(jié)構(gòu),主要是利用酸在多晶硅表面腐蝕是各向同性的,即不同晶面腐蝕速度相同。本文在上海神舟新能源多晶硅電池生產(chǎn)線上,研究了其HF-HNO3制絨工藝,發(fā)現(xiàn)目前工藝技術(shù)控制要求高,難度大,獲得的多晶硅表面反射率尚不理想。本文通過分析上海神舟新能源的多晶硅電池樣品的SEM圖,認(rèn)為普通制絨工藝得到的多晶硅電池表面陷阱坑淺而大,表面反射率高達(dá)31.8%以上。本文認(rèn)為需要對(duì)現(xiàn)有的HF-HNO3配方進(jìn)行改
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 多晶硅太陽(yáng)能電池酸腐蝕制絨研究.pdf
- 多晶硅太陽(yáng)能電池酸腐蝕制絨研究(1)
- 酸腐蝕液調(diào)節(jié)多晶硅表面結(jié)構(gòu)的研究.pdf
- 多晶硅絨面制備工藝的研究.pdf
- 化學(xué)腐蝕織構(gòu)多晶硅電池的絨面和機(jī)械刻槽電池的研究.pdf
- 多晶硅表面超聲駐波制絨方法研究.pdf
- 多晶硅太陽(yáng)能電池片絨面化處理增效的研究.pdf
- 多晶黑硅納米絨面結(jié)構(gòu)的調(diào)控技術(shù)研究.pdf
- 多晶硅產(chǎn)品
- 堿性液腐蝕冶金多晶硅太陽(yáng)電池表面結(jié)構(gòu)的研究.pdf
- 多晶硅結(jié)構(gòu)器件的溫度特性分析
- 多晶硅結(jié)構(gòu)器件的溫度特性分析.pdf
- 表面溫度場(chǎng)的分布對(duì)酸制絨多晶硅表面結(jié)構(gòu)的影響.pdf
- 碩士論文——各向同性腐蝕法制備太陽(yáng)電池用多晶硅片絨面
- 郭志球-各向同性腐蝕法制備太陽(yáng)電池用多晶硅片絨面
- 多晶硅產(chǎn)業(yè)近況10
- 太陽(yáng)能多晶硅
- 多晶硅刻蝕特性的研究.pdf
- 多晶硅生產(chǎn)文獻(xiàn)名稱
- 單晶硅與多晶硅的區(qū)別
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論