計算機控制的反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)及刻蝕研究.pdf

1、該文闡述了微系統(tǒng)的發(fā)展過程,敘述了二元光學(xué)的研究現(xiàn)狀和二元光學(xué)的成形過程,比較了幾種不同的刻蝕方法.并且詳細(xì)論述離子刻蝕的原理以及離子源的參數(shù)設(shè)計.從設(shè)計者的角度詳細(xì)說明了用計算機控制反應(yīng)離子刻蝕機的硬件系統(tǒng)、接口設(shè)計和軟件.并且設(shè)計了用單片機的脈沖調(diào)制技術(shù)實現(xiàn)了多路D/A轉(zhuǎn)換.反應(yīng)離子束刻蝕是二元光學(xué)器件面形轉(zhuǎn)移的主要方法.該文介紹了反應(yīng)離子束刻蝕的原理并研究了離子源設(shè)計的一些經(jīng)驗參數(shù)和各種刻蝕參數(shù)對二元光學(xué)器件成形過程的影響,以及不

2、同材料二元光學(xué)器件的刻蝕速率.該文詳細(xì)討論了計算機控制的反應(yīng)離子刻蝕機各個部分的硬件接口電路和設(shè)計思想.并重點介紹了用單片機實現(xiàn)數(shù)、模轉(zhuǎn)換的基本思想以及電路設(shè)計和參數(shù)選擇.軟件分為上位機軟件和下位機軟件兩種,上位機軟件是用C++語言編寫的,通過一個定時程序使各個控制命令按一定的時序順序的執(zhí)行,并不斷的檢測是否有錯誤出現(xiàn)需要報警.下位機軟件是用匯編語言編寫的,使用了定時器中斷和外部中斷作為輸出和輸入.該文在附錄中還詳細(xì)介紹了硬件部分的端口