版圖光刻工藝熱點快速檢測及修復(fù)技術(shù)研究

1、上海交通大學(xué)碩士學(xué)位論文版圖光刻工藝熱點快速檢測及修復(fù)技術(shù)研究碩士研究生：朱忠華學(xué)號：1142102098導(dǎo)師：黃其煜教授副導(dǎo)師：張浩申請學(xué)位：工程碩士學(xué)科：集成電路工程所在單位：電子信息與電氣工程學(xué)院答辯日期：2016年11月授予學(xué)位單位：上海交通大學(xué)萬方數(shù)據(jù)上海交通大學(xué)碩士學(xué)位論文II版圖光刻工藝熱點快速檢測及修復(fù)技術(shù)研究摘要隨著集成電路生產(chǎn)工藝進(jìn)入亞波長技術(shù)節(jié)點，由于設(shè)計變得更加復(fù)雜，使用分辨率增強(qiáng)技術(shù)修復(fù)光刻工藝熱點變得更加困難

2、。為了解決這個問題，設(shè)計者在產(chǎn)品流片前必須對版圖設(shè)計中的光刻工藝熱點進(jìn)行檢測。因此，光刻工藝熱點檢查成為可制造性設(shè)計中的一項重要技術(shù)。然而半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點的不斷深入，流片中產(chǎn)生的光刻工藝熱點的數(shù)量變得越來越龐大，檢查速度變得越來越慢。解決上述問題，論文提出了模型優(yōu)化和局部化光刻工藝熱點仿真兩種方法，可以有效加速光刻工藝熱點的檢查。PW簡化模型在保證誤報率不提升的情形下，可以提升仿真效率30%以上。局部化處理光刻工藝熱點檢查分為正向篩選與方

3、向過濾。采用熱點庫方式的正向篩選方法，采用合適的熱點圖形佳尺寸，可以將光刻工藝熱點檢查的速度至少提升65%。論文還提出了兩種特殊的光刻工藝熱點檢查方法，分別是改版類型的光刻工藝熱點檢查與IP固化的光刻工藝熱點檢查。檢查效率的提升依賴于改動或固化區(qū)域的大小，區(qū)域越小效率越高。工藝熱點的查找完成后，設(shè)計者必然需要制造者提供光刻工藝熱點修復(fù)指導(dǎo)。論文中根據(jù)光刻工藝熱點的類型分類拓展已知光刻工藝熱點，接而分批收集收據(jù)。最終給出了繞線層次線夾斷、