已閱讀1頁，還剩47頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀
版權說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內容提供方，若內容存在侵權，請進行舉報或認領
文檔簡介
1、本論文對于在硅/HF的電化學系統(tǒng)中的微觀反應進行了初步的理論分析和實驗研究。目前，利用硅/HF的電化學系統(tǒng)刻蝕硅通道因為其特殊的結構而能夠應用到很多領域，比如微泵，微通道板，光子晶體等。電化學刻蝕技術是由多孔硅技術發(fā)展而來的，具有高長徑比，成本低等優(yōu)點。本論文中，首先對微通道的應用以及相關原理進行了闡述，在經過廣泛調研的基礎上自行設計了硅/HF的電化學刻蝕系統(tǒng)，并通過上述系統(tǒng)對n型硅進行了刻蝕實驗。同時對在實驗中觀察到的通道的形成規(guī)律，
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網頁內容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容，請與我們聯系，我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 電化學腐蝕多孔硅光致發(fā)光特性研究.pdf
- 電化學加工硅微通道生長動力學特性研究.pdf
- 硅基納米發(fā)光材料——多孔硅的脈沖電化學腐蝕特性研究.pdf
- 工業(yè)用水中電化學深度除硅的特性研究.pdf
- 基于離子液體構筑的界面電化學研究.pdf
- 電化學增塑拉拔特性研究.pdf
- 電極溶液界面電化學SERS及SHINERS研究.pdf
- 硅微通道電化學腐蝕過程中的輸運特性.pdf
- 硅微通道板電化學腐蝕系統(tǒng)光生載流子輸運特性研究.pdf
- 氯丙嗪的電化學與光譜電化學研究.pdf
- 聚苯胺納米纖維的界面聚合法制備及電化學電容特性研究.pdf
- 電化學腐蝕法制備納米硅薄膜的結構和發(fā)光特性的研究.pdf
- 電化學測試技術——電化學噪聲
- 納米結構界面上魯米諾電化學發(fā)光的研究.pdf
- 基于石墨烯復合界面的DNA電化學傳感研究.pdf
- 45682.電化學研究液液界面電流振蕩現象
- 電化學法制備薄層二硫化鉬基復合界面及其電化學檢測應用.pdf
- Hf基柵GaAsMOS電容界面特性研究.pdf
- 電化學
- 聚苯胺電化學沉積及電化學性能研究.pdf
評論
0/150
提交評論