基于多剛體動力學模型的硅片臺運動控制分析.pdf

1、步進掃描投影光刻機是高端IC制造中最重要和最復雜的關鍵設備之一，而硅片臺則是光刻機的核心單元之一，其定位精度、速度和加速度要求很高，要求達到的納米級精度已近制造極限。這對硅片臺系統(tǒng)的穩(wěn)定性和可靠性提出了非?？量痰囊螅虼诉M行硅片臺動力學特性以及控制特性的研究，對提高光刻機的精度具有重要意義。
　　 通過對硅片臺的機械結構進行分析，基于多剛體動力學理論，利用ADAMS和Simulink軟件建立了多自由度硅片臺多剛體動力學模型。對

2、硅片臺系統(tǒng)進行了振動測試，仿真結果與測試結果比較一致，從而驗證了建立的多剛體動力學模型的正確性。在硅片臺多剛體動力學模型的基礎上計算得到了硅片臺水平運動方向上的頻率響應曲線，并對硅片臺的動力學特性進行了分析，為后續(xù)的控制器設計與運動控制仿真奠定了基礎。
　　 結合硅片臺運動指標和動力學特性，提出了反饋與前饋相結合的控制方案。首先確定了反饋控制器的設計指標，并分別設計了PID控制器和魯棒控制器；然后提出了以加速度信號作為前饋的實施