在半導體制造中的偏最小二乘算法、模型及其應用.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本報告主要研究了偏最小二乘算法(PLS:Partial Least Square)在半導體制造中的應用,以兩個實際問題為背景,即(1)半導體成品電性參數虛擬測量問題;(2)晶圓的氧化物涂層的厚度控制,抽象了出兩個科學問題加以研究,本文的主要貢獻如下:
　　 (1)研究了半導體成品電性參數的虛擬測量問題,其科學問題為大規(guī)模、高相關性數據下的建模問題,提出了基于遍歷PLS的非負Garrote回歸算法(E-PLSNNG:Eogodic

2、 Partial Least Sqare Nonnegative Garrote Regression)來構建參數預測模型。其思想是通過PLS算法確定初始的回歸系數,再此基礎之上,通過NNG算法獲得最終的預測模型。文中給出了E-PLSNNG算法優(yōu)于著名的LASSO算法和NNG算法的理論優(yōu)勢。通過大量的數值仿真和實際例子驗證了E-PLSNNG的有效性。
　　 (2)研究了晶圓的氧化物涂層的厚度控制問題,其科學問題為閉環(huán)控制之下的有

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